[发明专利]污染物来源解析方法

说明书

本发明公开了一种污染物来源解析方法，包括：以待解析区域为受体，确定受体的若干个目标排放源，并获取若干个目标排放源的指纹谱；获取受体监测数据；剔除受体监测数据中的未知源成分；以及根据受体的目标排放源的指纹谱、剔除未知源成分的受体监测数据以及预先构建的化学质量平衡模型，得到污染物来源解析结果。通过建立污染物排放源清单以及确定清单中的受体目标排放源，提高了溯源解析的针对性及定位精度并考虑了企业生产场地的边界交叉污染问题，同时设计了合理可行的污染物来源解析流程以及共线性源、未知源成分的判定方法，在一定程度上解决了共线性问题，提高了对污染物来源的定位的准确度和定量解析的精确度。

技术领域

本发明涉及大气污染防治领域，具体地涉及一种污染物来源解析方法。

背景技术

了解重点区域大气污染物排放特性，定性定量地阐明特征污染物的来源及其贡献，是科学合理建立大气污染防治长效机制的重要条件。

目前常见的污染物来源解析办法，通常仅考虑受体位置污染状况，未对周边可能对受体位置产生影响的排放源摸底排查。另外，常用的因子分析作为受体源解析技术虽然做出了成分分析，但分析出的成分因子仅具有数学意义，其物理意义难以表述。

因此，现有技术中对污染物来源进行分析时存在企业边界交叉污染区域的污染物来源不明确、定位不精确、解析结果不准确等问题。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种污染物来源解析方法，以解决上述技术问题，至少部分地解决上述问题。

本发明实施例提供的污染物来源解析方法，包括：确定受体的若干个目标排放源，并获取若干个所述目标排放源的指纹谱；获取受体监测数据；剔除所述受体监测数据中的未知源成分；以及根据所述受体的所述目标排放源的指纹谱、剔除所述未知源成分的受体监测数据以及预先构建的化学质量平衡模型，得到污染物来源解析结果。

可选的，所述确定受体的若干个目标排放源并获取若干个所述目标排放源的指纹谱包括：建立所述受体周边的污染物排放源清单，并确定所述污染物排放源清单上的所述污染物排放源的指纹谱；以及分析出所述污染物排放源清单中能够对所述受体造成污染的若干所述污染物排放源，即若干目标排放源，并确定若干个所述目标排放源的指纹谱。

可选的，所述建立受体周边的污染物排放源清单包括：在所述受体所属企业生产场地范围之内以一个或多个装置作为一个排放源；在受体所属企业生产场地范围之外以一个企业作为一个排放源。

可选的，所述作为一个排放源的所述多个装置的污染物排放特性相同和 /或所述多个装置的位置相邻且不存在明显界限。

可选的，所述剔除所述受体监测数据中的未知源成分之前，所述污染物来源解析方法还包括：判断所述目标排放源中是否存在共线性源；在所述目标排放源中存在共线性源时，获取所述受体监测数据的主成分，并判断所述受体监测数据的主成分中是否存在未知源成分，若所述受体监测数据的主成分中存在未知源成分，则剔除所述受体监测数据中的未知源成分。

可选的，所述判断所述目标排放源中是否存在共线性源包括：获取所述受体的若干个所述目标排放源中每两个所述目标排放源的指纹谱之间的第一相关系数，若任意每两个所述目标排放源的指纹谱之间的所述第一相关系数均小于第一预定值，则判定所述目标排放源中不存在共线性源；反之，则判定所述目标排放源中存在共线性源。

可选的，所述获取所述受体位置的若干个所述目标排放源中每两个所述目标排放源的指纹谱之间的第一相关系数包括：所述第一相关系数采用如下公式得到：其中，ρ_XY表示排放源X和排放源Y的第一相关系数，X、Y分别表示排放源X、Y的指纹谱，Cov(X，Y)表示排放源X和排放源Y的指纹谱的协方差，D(X)表示排放源X的指纹谱的方差，D(Y)表示排放源Y的指纹谱的方差。