[发明专利]一种TiN-CrMoN耐摩擦复合涂层的制备方法

权利要求书

1.一种TiN-CrMoN耐摩擦复合涂层的制备方法，其特征在于：该制备方法包括：

步骤一，选用M2高速钢作为基片，先对基本进行预处理；

步骤二，采用多弧离子镀设备制备TiN涂层，靶材采用纯Ti靶，先沉积Ti过渡层，再沉积TiN沉积层；

步骤三，采用多弧离子镀设备制备CrMoN涂层，靶材采用Cr靶和Mo，调节靶电流，使得Ar靶电流大于Mo靶电流，沉积时间为60min， 再次调节靶电流，使得Ar靶电流小于Mo靶电流，沉积时间为70min。

2.根据权利要求1所述的一种TiN-CrMoN耐摩擦复合涂层的制备方法，其特征在于：所述预处理包括将基片在打磨机上打磨后，然后采用金刚石研磨膏进行抛光处理，再依次经丙酮和无水乙醇各超声清洗15min。

3.根据权利要求1所述的一种TiN-CrMoN耐摩擦复合涂层的制备方法，其特征在于：在所述步骤二中，在沉积Ti过渡层时，偏压为200V，高纯Ar气100ML/min，沉积时间为10min。

4.根据权利要求3所述的一种TiN-CrMoN耐摩擦复合涂层的制备方法，其特征在于：在所述步骤二中，在沉积TiN涂层时，包括Ar流量为80ML/min，N₂流量为120ML/min，沉积TiN涂层30min；再调节调节N₂和Ar气的流量，使得Ar流量为40ML/min，N₂流量为160ML/min，沉积TiN30min。

5.根据权利要求4所述的一种TiN-CrMoN耐摩擦复合涂层的制备方法，其特征在于：在所述步骤二中，基体偏压为-120V，温度为450℃，工作气压为2.5Pa。

6.根据权利要求5所述的一种TiN-CrMoN耐摩擦复合涂层的制备方法，其特征在于：在所述步骤三中，先调节Cr靶电流为0.5A，改变Mo靶电流分别为0.3A，沉积时间为60min，再调节Cr靶电流为0.3A，改变Mo靶电流分别为0.5A，沉积时间为70min。

7.根据权利要求6所述的一种TiN-CrMoN耐摩擦复合涂层的制备方法，其特征在于：在所述步骤三中， Ar流量为80ML/min，N₂流量为150ML/min，气压保持在0.5Pa，基片温度为300℃。

8.根据权利要求1所述的一种TiN-CrMoN耐摩擦复合涂层的制备方法，其特征在于：形成的复合涂层包括TiN涂层，TiNrN及CrN过渡层和CrMoN涂层。

9.根据权利要求1所述的一种TiN-CrMoN耐摩擦复合涂层的制备方法，其特征在于：形成的复合涂层摩擦系数为0.29，磨损率为1.53。