[发明专利]一种离子注入装置在审
| 申请号： | 201811325251.1 | 申请日： | 2018-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN111161989A | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 彭立波;邓坎;王迪平;胡振东;袁卫华;许波涛 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 周长清;徐好 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 离子 注入 装置 | ||
1.一种离子注入装置，其特征在于：包括旋转靶盘(1)及宽带离子束(2)，所述旋转靶盘(1)上设有与旋转靶盘(1)中心重合的环形注入区域(11)，所述环形注入区域(11)内均匀布置有多个晶圆装载区(3)，所述宽带离子束(2)的宽度为a、所述环形注入区域(11)的半径为b，则a≥b。
2.根据权利要求1所述的离子注入装置，其特征在于：所述宽带离子束(2)剖面沿所述旋转靶盘(1)半径方向的束流线密度满足公式I＝k*r，其中k＞0。
3.根据权利要求2所述的离子注入装置，其特征在于：所述环形注入区域(11)内设有用于检测所述宽带离子束(2)束流参数的束流检测孔(12)，所述束流检测孔(12)位于相邻的两个晶圆装载区(3)之间并沿所述旋转靶盘(1)的径向布置，所述束流检测孔(12)远离所述宽带离子束(2)的一侧设有束流检测法拉第(4)。
4.根据权利要求2所述的离子注入装置，其特征在于：所述环形注入区域(11)内设有多个用于检测束流均匀性的束流均匀性检测孔(13)，多个所述束流均匀性检测孔(13)呈渐开线布置于晶圆装载区(3)之间的间隙区域。
5.根据权利要求1所述的离子注入装置，其特征在于：所述宽带离子束(2)为成型宽带离子束或扫描宽带离子束。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的离子注入装置，其特征在于：还包括靶腔体盖板(5)，所述靶腔体盖板(5)上设有靶盘旋转密封组件(6)以及靶盘旋转驱动件(7)，所述靶腔体盖板(5)与所述旋转靶盘(1)同轴布置、且靶腔体盖板(5)直径大于旋转靶盘(1)的直径，所述靶盘旋转驱动件(7)通过所述靶盘旋转密封组件(6)与所述旋转靶盘(1)相连。
7.根据权利要求6所述的离子注入装置，其特征在于：所述靶盘旋转密封组件(6)为磁流体密封组件，所述靶盘旋转驱动件(7)为电机。
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