[发明专利]感光性树脂组成物在审

专利信息
申请号: 201811325064.3 申请日: 2018-11-08
公开(公告)号: CN109752923A 公开(公告)日: 2019-05-14
发明(设计)人: 郑壤镐;朴廷敏;边镇洙;全保建;朴喆远;郑炳和;崔善华;金东明;金珍善;吕泰勳;尹赫敏;李政镇 申请(专利权)人: 三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
主分类号: G03F7/033 分类号: G03F7/033
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 孙昌浩;李盛泉
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 重量份 感光性树脂组成物 多官能团丙烯酸酯 丙烯酸系共聚物 烯键式不饱和键 自由基光引发剂 多官能团单体 光引发剂 低聚物 溶剂 离子
【说明书】:

根据本发明的一实施例的感光性树脂组成物相对于丙烯酸系共聚物100重量份而包括:0.1至20重量份的自由基光引发剂;0.1至10重量份的离子光引发剂;1至50重量份的多官能团丙烯酸酯低聚物;1至50重量份的具有烯键式不饱和键的多官能团单体;以及溶剂。

技术领域

本发明涉及一种感光性树脂组成物及利用该组成物的图案形成方法。

背景技术

通常,显示装置是目前被广泛使用的显示装置,包括液晶显示装置(Liquidcrystal display;LCD)和有机发光显示装置(Organic light emitting display;OLED)等多种。并且,最近,将显示装置弯曲而形成为曲面型的显示装置受到瞩目,其可以提高使用者的投入感。

在形成这种显示装置的过程中,为了将膜图案化,可以使用光刻工艺,此时使用光刻胶物质。或者,可以将光刻胶物质曝光、显影而直接形成膜。

可以使用上述光刻胶而形成绝缘膜、柱状间隔物、过量涂层、滤色层,其中,用于形成光刻胶的感光性树脂组成物的成分构成会影响分辨率、粘合力、留膜率等。

发明内容

实施例用于提供一种能够在低温下固化,且灵敏度、留膜率优秀且残渣特性优秀的感光性树脂组成物及利用此的图案形成方法。

根据本发明的一实施例的感光性树脂组成物相对于丙烯酸系共聚物100重量份而包括:0.1至20重量份的自由基光引发剂;0.1至10重量份的离子光引发剂;1至50重量份的多官能团丙烯酸酯低聚物;1至50重量份的具有烯键式不饱和键的多官能团单体;以及溶剂。

所述感光性树脂组成物可以在90℃以下的温度下被固化。

所述自由基光引发剂可以是2-(O-苯甲酰基肟)-1-[4-(苯基硫代)苯基]-1,2-辛二酮或2-(O-乙酰基肟)-1-[4-(苯基硫代)苯基]-1,2-辛二酮。

所述离子光引发剂可以是从由苯基(4-甲氧基苯基)碘鎓六氟化磷、N,N-二甲基-N-苄基三氟甲磺酸、4-甲基苯基(4-(2-甲基丙基苯基))碘鎓六氟化磷及苯基(4-甲氧基苯基)碘鎓六氟化砷组成的群中选择的一个。

所述自由基光引发剂和所述离子光引发剂的含量比可以为2:1至1:2。

所述感光性树脂组成物的固形物含量可以为10重量%至50重量%。

所述感光性树脂组成物还可以包括三聚氰胺交联剂。

所述感光性树脂组成物还可以包括硅烷偶联剂。

所述丙烯酸共聚物可以通过将不饱和羧基化合物和不饱和烯烃化合物共聚而形成。

所述溶剂的沸点可以小于150℃。

根据实施例,根据本实施例的感光性树脂组成物及利用该组成物的图案形成方法的灵敏度、留膜率优秀,且可以改善残渣特性,并且在低温工序中的粘合力及耐化学性优秀。

附图说明

图1至图4是示出根据本发明的一实施例的图案形成方法的工艺流程图。

符号说明

110:基板 400:被涂覆的感光性树脂组成物

410:感光性树脂组成物层 700:掩膜

具体实施方式

以下,参照附图对本发明的多个实施例进行详细的说明,以使本发明所属技术领域中具有基本知识的人员能够容易地实施。本发明可以实现为多种不同的形态,而并非局限于在本文中说明的实施例。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司;株式会社东进世美肯,未经三星显示有限公司;株式会社东进世美肯许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811325064.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top