[发明专利]曝光系统、曝光方法及显示用面板基板的制造方法

说明书

本发明提供一种不大幅增加设备或步骤，于单片基板将尺寸相异的图样以高位置精度曝光的曝光系统，包含于经涂布于基板的光阻，以指定的间隔形成多个基板标记的标记装置、及多个曝光装置。多个曝光装置分别自图像取得装置所取得的屏蔽标记及基板标记的图像，检测出屏蔽标记与基板标记的偏移量，使用激光测量装置，检测平台位置，对应检测出的该偏移量，进行屏蔽标记与基板标记的位置校准，进行屏蔽与基板的相对位置定位，基于激光测量装置的检测结果，控制图样于基板曝光的位置，于基板进行图样的曝光，将尺寸相异的图样于基板曝光。

技术领域

本发明涉及一种使用近接法的曝光装置，于单片基板将多个图样曝光的曝光系统、曝光方法及使用这些的显示用面板基板的制造方法，特别是关于使用多个曝光装置，于单片基板将不同尺寸的图样曝光的曝光系统、曝光方法及使用这些的显示用面板基板的制造方法。

背景技术

被作为显示用面板使用的液晶显示设备的TFT(Thin Film Transistor)基板及彩色滤光片基板、等离子体显示面板用基板等的制造，使用曝光装置，通过光刻技术于基板上形成图样以进行。作为曝光装置，有使用透镜或反射镜将屏蔽的图样投影于基板上的投影法，及于屏蔽与基板之间设置微小的间隙(Proximity gap)而将屏蔽的图样转印至基板的近接法。近接法相较于投影法虽然分辨率表现差，但照射光学系统的构造简单，且处理能力高因而适合量产用。

显示用面板的各种基板的制造中，为了对应大型化及尺寸的多样化，准备相对较大的基板，对应显示用面板的尺寸，于单片基板形成单一或多个显示用面板的图样。此状况下，若是欲通过近接法将基板的一面一齐曝光，则必须有与基板相同大小的屏蔽，高额的屏蔽成本将进一步增加。在此使用相较于基板为小的屏蔽，通过移动平台将基板于XY方向步进移动的同时，将基板的一面分为多个镜头而曝光的分割曝光为主流。

液晶显示设备的彩色滤光片基板，为了与TFT基板贴合，遍布于基板整体的各图样的位置被要求为高精度。近接法的分割曝光法中，于各镜头使用CCD相机等，取得屏蔽的校准标记及基板的校准标记的图像，通过图像处理检测出两者的偏移量，进行屏蔽与基板的位置校准。但是，于最先形成于彩色滤光片基板的黑底的曝光，基板的表面尚未形成有对位标记。因此，彩色滤光片基板的黑底的曝光中，使基板步进移动时，使用激光测量系统而精度良好地进行基板的定位，确保位置精度。激光测量系统，包含用以产生激光的光源、安装于夹盘或移动平台的反射机构(柱状镜)及用以测定源自光源的激光与通过反射机构(柱状镜)而被反射的激光的干涉的激光干涉计。

另一方面，专利文献1中，揭示有一种技术，于彩色滤光片基板等的曝光中，通过使用激光的标记装置，于经涂布于基板的光阻层，形成基板的各曝光区域的校准标记，将对于单片基板的多个曝光区域的曝光，分担于多个曝光装置间而进行。

〔现有技术文献〕

[专利文献]

专利文献1：日本特开2004-294770号公报

发明内容

[发明所欲解决的问题]

伴随近年来显示用面板的大型化，基板的尺寸亦不断大型化。为了尽量不浪费地使用大型的基板，必须使于单片的基板将尺寸相异的显示用面板的图样曝光，将面板的表面利用效率(相对于基板整体的面积的使用面积的比例)提升。为了将尺寸相异的图样曝光，变得需要多个屏蔽，并变得需要多个曝光位置。但是，上述的通过激光测量系统的定位，仅能于单一个曝光装置内曝光的多个图样间维持位置精度。因此，若是将基板自夹盘取出而移动至别的曝光装置，则无法维持已经曝光的图样与即将曝光的图样之间的位置精度。因此，以往将形成有尺寸相异的图样的校准标记的校准标记专用的屏蔽予以准备，设置校准标记专用的曝光装置，事先于基板形成校准标记的步骤为必须。因此会有校准标记形成步骤相关的设备费用及运作成本增加的问题。