[发明专利]侦测晶圆键合缺陷的方法和装置有效

专利信息
申请号: 201811322355.7 申请日: 2018-11-08
公开(公告)号: CN109461670B 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 郭松辉;沈新林;吴孝哲;吴龙江;林宗贤 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 北京市一法律师事务所 11654 代理人: 刘荣娟
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 侦测 晶圆键合 缺陷 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种侦测晶圆键合缺陷的方法,其特征在于,包括:

将第一晶圆和第二晶圆置于晶圆承载盘,所述晶圆承载盘上分布有若干压电元件,所述压电元件内置发射端和接收端;

在所述压电元件的发射端输入第一信号;

对所述第一晶圆和第二晶圆进行键合;

在键合过程中,所述压电元件的接收端输出第二信号,将所述第二信号与基准信号进行对比,以检测晶圆键合的缺陷及位置,其中所述基准信号为正常键合时接收端输出的信号。

2.如权利要求1所述的侦测晶圆键合缺陷的方法,其特征在于,所述若干压电元件的数量和分布位置与晶圆尺寸和/或检测精确度需求相关。

3.如权利要求2所述的侦测晶圆键合缺陷的方法,其特征在于,所述压电元件均匀分布在所述晶圆承载盘上。

4.如权利要求2述的侦测晶圆键合缺陷的方法,其特征在于,所述压电元件的数量为9~121。

5.如权利要求1所述的侦测晶圆键合缺陷的方法,其特征在于,所述第一信号为简谐信号、瞬变信号或随机信号。

6.如权利要求1所述的侦测晶圆键合缺陷的方法,其特征在于,所述第一晶圆和第二晶圆分别为载片晶圆和器件晶圆,或者,所述第一晶圆和第二晶圆分别为像素晶圆和逻辑晶圆,或者,所述第一晶圆和第二晶圆均为器件晶圆。

7.一种侦测晶圆键合缺陷的装置,其特征在于,包括:晶圆承载盘、若干压电元件、信号输入端、控制单元和信号输出端;

所述若干压电元件分布在所述晶圆承载盘上,所述压电元件内置发射端和接收端;

所述信号输入端通过所述控制单元与所述发射端连接,所述信号输出端与所述接收端连接,并在键合过程中读取所述接收端输出的第二信号;

所述控制单元用于在键合过程中,控制所述信号输入端向所述发射端输入第一信号;

通过将所述第二信号与基准信号进行对比,以检测晶圆键合的缺陷及位置,其中所述基准信号为正常键合时接收端输出的信号。

8.如权利要求7所述的侦测晶圆键合缺陷的装置,其特征在于,所述若干压电元件的数量和分布位置与晶圆尺寸和/或检测精确度需求相关。

9.如权利要求8所述的侦测晶圆键合缺陷的装置,其特征在于,所述压电元件均匀分布在所述晶圆承载盘上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德淮半导体有限公司,未经德淮半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811322355.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top