[发明专利]耐热用功率模块基板、耐热用镀覆膜和镀液在审
申请号: | 201811321184.6 | 申请日: | 2018-11-07 |
公开(公告)号: | CN109962053A | 公开(公告)日: | 2019-07-02 |
发明(设计)人: | 黑坂成吾;小田幸典 | 申请(专利权)人: | 上村工业株式会社 |
主分类号: | H01L23/498 | 分类号: | H01L23/498;H01L23/373;H01L23/29;H01L21/48;C23C18/36 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 耐热 功率模块 镀覆 基板 基材 镀液 覆膜 功率半导体 电路表面 化学镀镍 直接形成 氮化硅 氮化铝 铝形成 氧化铝 高热 钎料 电路 | ||
本发明的目的在于,提供:即使进行高温侧200℃以上的TCT也防止覆膜中产生裂纹的耐热用功率模块基板、耐热用镀覆膜和镀液。一种耐热用功率模块基板,其特征在于,其为用于搭载产生最高到300℃的高热的功率半导体的耐热用功率模块基板,所述功率模块基板至少具备:基材,其由氧化铝、氮化铝或氮化硅形成;电路,其直接形成于前述基材上或借助钎料形成于前述基材上,且由铜或铝形成;和,镀覆膜,其形成于前述电路表面,前述镀覆膜为化学镀镍‑磷‑钼覆膜,前述镀覆膜中的磷的含有率为10.5~13重量%。
技术领域
本发明涉及用于搭载发出高热的功率半导体的耐热用功率模块基板、耐热用镀覆膜和镀液。
背景技术
一直以来,功率模块基板大多使用Si半导体芯片,在半导体芯片的性能保证上,在工作温度最高为150℃左右的条件下使用。
为了提高导体电路的耐腐蚀性,对上述功率模块基板实施了能耐受上述工作温度的镀镍-磷等。
例如专利文献1中公开了一种化学镀镍-磷镀覆膜,其以以往使用的树脂基板、陶瓷基板等为对象,为了能实现高的软钎料接合强度,在导电体电路中的软钎料接合部分具有选自铁、钨、钼和铬中的至少一种成分。
另外,专利文献2中公开了一种化学镀镍-硼的方法,其在不对陶瓷、铝等被镀物进行高温处理的情况下可以得到高硬度。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2002-256444号公报
专利文献2:日本专利3146065号
发明内容
功率模块一般由功率半导体、功率模块基板(绝缘基板)和冷却器构成。功率半导体由于进行高电压、高电流的控制而工作时的放热量较高。以往,控制电流电压来控制功率半导体本身的温度上升,且以安装有功率半导体的功率模块基板和冷却器促进放热,控制功率半导体的工作温度不升高。另一方面,新一代的SiC、GaN等半导体芯片的耐热性高,即使瞬间引起最高到300℃左右的放热,芯片本身也能工作。因此,模块整体无需以往的冷却能力,为了可以使冷却器等小型化,可以期待作为模块整体的尺寸下降。另一方面,使软钎料等接合材料夹设于功率模块基板与功率半导体之间,但对功率模块基板也要求高于以往的耐热性。为了提高耐腐蚀性、接合可靠性,大多对功率模块基板的布线表面实施镀镍-磷。对于以往的镀镍-磷,作为耐热性的评价试验的冷热冲击试验(以下简记作TCT)中,在将低温侧设为-50℃、高温侧设为200℃以上时存在镀覆膜产生裂纹的问题。
因此,本发明的目的在于,提供:即使进行上述温度下的TCT也防止镀覆膜中产生裂纹的耐热用功率模块基板、耐热用镀覆膜和镀液。
本发明的一方式的耐热用功率模块基板的特征在于,其为用于搭载产生最高到300℃的高热的功率半导体的耐热用功率模块基板,所述功率模块基板至少具备:基材,其由氧化铝、氮化铝或氮化硅形成;电路,其直接形成于前述基材上或借助钎料形成于前述基材上,且由铜或铝形成;和,镀覆膜,其形成于前述电路表面,前述镀覆膜为化学镀镍-磷-钼覆膜,前述镀覆膜中的磷的含有率为10.5~13重量%。
如此,可以提供:即使进行高温侧200℃以上的TCT也防止镀覆膜中产生裂纹的耐热用功率模块基板。
此时,本发明的一方式中,前述镀覆膜中的钼的含有率可以设为0.01~2.0重量%。
如此,可以进一步防止镀覆膜中产生裂纹。
另外,本发明的一方式中,前述镀覆膜中的磷的含有率可以设为11~13重量%。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上村工业株式会社,未经上村工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811321184.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。