[发明专利]跨线结构及其制作方法、显示面板

说明书

本发明涉及一种跨线结构的制作方法，包括如下步骤：提供基板，并在基板上沉积第一导电物质，并将第一导电物质刻蚀得到第一导电层；在第一导电层上依次沉积第二导电物质和光阻物质；通过光罩将不需要形成第二导电层的位置的部分光阻物质去除；将未蚀刻的部分光阻物质作为阻挡层，对第二导电物质进行蚀刻；去除未蚀刻的部分光阻物质，得到第二导电层，第二导电层与第一导电层交叠设置；其中，通过对光罩图形进行补偿使得第二导电层上与第一导电层交叠部分的宽度大于或等于未与第一导电层交叠部分的宽度。有效解决了跨线结构断线导致信号传输异常的问题。

技术领域

本发明涉及显示领域，特别是涉及一种跨线结构及其制作方法、显示面板。

背景技术

在显示面板行业，面板内的不同功能，不同层别的走线设计有数以百万条，走线和走线之间亦会有无数个位置会发生跨线交叠。

以液晶显示器为例，通常在上层导线层和下层导线层的跨线处，由于下层导线层有厚度和坡度角，在上层导线层镀膜时，坡度角上的膜厚会比非跨线平坦处的膜厚要薄。在上层导线层镀膜完成后，需要进行光阻镀膜，由于光阻的流平性，光阻在坡度角和跨线金属上方上的膜厚会比非跨线平坦处的膜厚要薄，曝光时，光阻比较薄的地方曝光后留下来的光阻会比较细。蚀刻的时候，细的光阻下面被酸刻蚀的更多，在加上坡度较上的上层导线层镀膜比较薄，就容易被酸刻蚀的比较细，严重的会断掉，导致信号传输出现异常，降低了面板的品质。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种能有效防止跨线结构断线导致信号传输异常的跨线结构及其制作方法、显示面板。

为实现本发明的目的，本发明采用如下技术方案：

一种跨线结构的制作方法，包括如下步骤：

提供基板，并在所述基板上沉积第一导电物质，并将所述第一导电物质刻蚀得到第一导电层；

在所述第一导电层上依次沉积第二导电物质和光阻物质；

通过光罩将不需要形成第二导电层的位置的部分光阻物质去除；

将未蚀刻的部分光阻物质作为阻挡层，对第二导电物质进行蚀刻；

去除未蚀刻的部分光阻物质，得到第二导电层，所述第二导电层与所述第一导电层交叠设置；

其中，通过对光罩图形进行补偿使得第二导电层上与所述第一导电层交叠部分的宽度大于或等于未与所述第一导电层交叠部分的宽度。

在其中一个实施例中，作为阻挡层的所述未蚀刻的部分光阻物质的结构包括依次连接的平坦段M1、斜坡段P1、平坦段M2、斜坡段P2和平坦段M3，所述斜坡段P1、平坦段M2和斜坡段P2位于所述第一导电层与所述第二导电层的投影重合处，所述斜坡段P1的宽度分别大于所述平坦段M1、平坦段M2和平坦段M3的宽度，且所述斜坡段P2的宽度分别大于所述平坦段M1、平坦段M2和平坦段M3的宽度。

在其中一个实施例中，所述平坦段M1的宽度小于所述平坦段M2的宽度，且所述平坦段M3的宽度小于所述平坦段M2的宽度。

在其中一个实施例中，所述第一导电层的结构包括依次连接的平坦段M4、平坦段M5和平坦段M6，所述平坦段M5的宽度分别小于所述平坦段M4和平坦段M6的宽度，且所述平坦段M5位于所述第一导电层和所述第二导电层的投影重合处。

在其中一个实施例中，所述第一导电层为第一金属层，所述第二导电层为第二金属层或铟锡金属氧化层。

在其中一个实施例中，所述第一导电层用来形成栅极走线，第二层导电层用来形成源极和漏极走线。

在其中一个实施例中，所述第一导电层与所述第二导电层垂直设置。

为实现本发明的目的，本发明还采用了如下技术方案: