[发明专利]一种制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法

权利要求书

1.一种制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：

用表面改性剂对高硬度磨料分散液进行表面改性，再依次加入pH稳定剂和氧化剂，其中，所述表面改性剂为乙酸和/或丙酸，所述pH稳定剂为硝酸铝，所述氧化剂选自高锰酸钾，所述抛光液对SiC单晶的Si面的去除速度为0.5~1.5μm/hr且对SiC单晶的C面的去除速度为3.5~6μm/hr。

2.根据权利要求1所述的制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，其特征在于，所述高硬度磨料选自氧化铝、金刚砂、金刚石、碳化硼、硅碳中的一种或任意几种，其中，所述高硬度磨料的Zeta电势大于+30mv。

3.根据权利要求2所述的制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，其特征在于，所述高硬度磨料选自氧化铝。

4.根据权利要求3所述的制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，其特征在于，所述氧化铝可以是莫氏硬度9.0的高硬度的α-氧化铝，也可以是过渡相氧化铝。

5.根据权利要求4所述的制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，其特征在于，所述过渡相氧化铝选自θ-氧化铝、γ-氧化铝、κ-氧化铝、δ-氧化铝中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，其特征在于，所述硝酸铝的终浓度为0.01~5%。

7.根据权利要求6所述的制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，其特征在于，所述硝酸铝的终浓度为0.05~1%。

8.根据权利要求1所述的制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，其特征在于，所述氧化剂的终浓度为0.01~10%。

9.根据权利要求8所述的制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，其特征在于，所述氧化剂的终浓度为0.1~4%。

10.根据权利要求1所述的制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，其特征在于，所述高硬度磨料为浓度为10~30%的酸性氧化铝分散液，所述表面改性剂的用量为氧化铝重量的0.5~2.0%。

11.根据权利要求10所述的制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，其特征在于，所述高硬度磨料为浓度为15~25%的酸性氧化铝分散液，所述表面改性剂的用量为氧化铝重量的1.0~1.5%。

12.根据权利要求1-11任一所述的制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：

（1）提供酸性氧化铝分散液：将Zeta电势为正值且大于+30mv的氧化铝分散在水中，用硝酸将pH值调至0~1，用星型球磨机研磨，最终pH值控制在3.5~4，其中所用pH调节剂是硝酸和氢氧化钾；

（2）表面改性：在上述酸性氧化铝分散液中加入表面改性剂乙酸和/或丙酸，继续用球磨机分散，得到表面改性酸性氧化铝分散液；

（3）将表面改性氧化铝分散液稀释，加入硝酸调节pH值为3.5~4，加入pH值稳定剂硝酸铝，搅拌分散；

（4）加入氧化剂，配制成pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液。

13.根据权利要求12所述的制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，其特征在于，将所述步骤（1）和所述步骤（2）合并，具体步骤为：将氧化铝分散在水中，用硝酸将pH值调至0~1，加入表面改性剂乙酸和/或丙酸，用球磨机分散，同时完成球磨分散和表面改性。