[发明专利]对位芳纶涂层浆料及其制备方法、对位芳纶隔膜及其制备方法和二次电池

权利要求书

1.一种对位芳纶隔膜的制备方法，其特征在于，包括基膜以及涂覆于所述基膜表面上的涂层；所述涂层主要由对位芳纶涂层浆料所形成，所述对位芳纶涂层浆料，包括溶液A和溶液B；

按质量份数计，所述溶液A包括对位芳纶溶解液65～85份和非溶剂10～20份；

所述溶液B包括第一溶剂40～55份、分散剂0.5～2份和无机颗粒45～60份；

溶液A和溶液B的质量比为(5～3)：1；

所述方法包括以下步骤：

将制备好的对位芳纶涂层浆料涂覆在基膜的表面上，萃取，干燥，得到所述对位芳纶隔膜；

萃取过程中至少采用5个萃取槽进行萃取，前3个萃取槽内的萃取剂为水和NMP，其余萃取槽内的萃取剂为水，前3个萃取槽内的萃取剂中的NMP和水的重量比各不相同，NMP的重量含量从前至后依次减少，从前至后的3个萃取槽中，NMP和水的重量比分别为3：2、1：1和2：3。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，溶液A和溶液B的质量比为4：1。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，按质量份数计，所述溶液A包括对位芳纶溶解液68～82份和非溶剂14～16份；

和/或，按质量份数计，所述溶液B包括第一溶剂46～52份、分散剂0.8～1.5份和无机颗粒48～53份。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，按质量份数计，所述溶液A包括对位芳纶溶解液70～80份和非溶剂15份。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，按质量份数计，所述溶液B包括第一溶剂49份、分散剂1.0份和无机颗粒50份。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述非溶剂包括碳酸二甲酯、乙酸乙酯、环己烷或膦酸二甲酯中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一溶剂包括NMP、DMAC、DMF或DMP中的至少一种。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述无机颗粒包括氧化铝、氧化锆、氧化镁、氧化锌或氧化硅中的至少一种。

9.根据权利要求1～8任一项所述的方法，其特征在于，所述对位芳纶溶解液的质量浓度为1.5～5％。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述对位芳纶溶解液的质量浓度为2～4％。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述对位芳纶溶解液的质量浓度为3％。

12.根据权利要求1～8任一项所述的方法，其特征在于，所述对位芳纶溶解液主要由第二溶剂、助溶剂、表面活性剂、对苯二胺和对苯二甲酰氯制得。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述第二溶剂包括NMP、DMAC、DMF或DMP中的至少一种。

14.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述助溶剂包括氯化钙和/或氯化锂。

15.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述表面活性剂包括聚乙二醇及其衍生物。

16.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将所述溶液A和溶液B混合均匀，得到所述对位芳纶涂层浆料。

17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，溶液A和溶液B的混合搅拌时间为60～90min。

18.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂层涂覆于所述基膜的单侧表面或者双侧表面。