[发明专利]一种应用于质子治疗装置的真空控制系统有效
申请号: | 201811270831.5 | 申请日: | 2018-10-29 |
公开(公告)号: | CN109224322B | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 郑金星;黄发领;王成;朱雷;沈俊松;张午权 | 申请(专利权)人: | 合肥中科离子医学技术装备有限公司 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10;G05B19/05 |
代理公司: | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人: | 胡剑辉 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 应用于 质子 治疗 装置 真空 控制系统 | ||
本发明公开了一种应用于质子治疗装置的真空控制系统,包括用于系统监视和操作的人机界面,接收、处理和发送控制信号的本地控制器,连接多个Profinet信号的第一网络交换设备,连接多个Profibus信号的第二网络交换设备,采集现场气动阀门位置开关信号的分布式I/O模块。本系统采用Profinet、Profibus总线技术,分布式I/O技术,实现对机械泵、分子泵、真空规和气动阀门等装置的监视和控制,保证了质子治疗真空环境的稳定性,节省了大量的控制电缆,提高了便捷性,节约了成本。
技术领域
本发明涉及一种控制系统,尤其涉及一种应用于质子治疗装置的真空控制系统。
背景技术
真空控制系统是质子治疗装置控制系统中重要的组成部分,质子束流在传输过程中,都需要在真空环境下进行,且对真空环境要求很高,因此需要控制系统稳定性好。
采用基于PLC的真空控制系统,具有各方面有点;(1)PLC具有安全功能,可带安全模块,不需要再做额外的冗余系统;(2)PLC控制系统开发简单,研发成本低,且稳定性好;(3)PLC控制器响应时间可达到us级,响应速度完全满足本系统。在基于满足系统需求的情况下,从研发时间,研发成本和安全性能方面考虑,用于质子治疗装置的真空控制系统可采用PLC来实现。
自真空技术出现以来,真空技术的不断进步极大的促进了人类科学技术的发展,无论是半导体行业,新材料开发,还是离子加速器等应用科学领域都对真空有很大要求;现有技术中,对于类似于质子治疗装置所需要的高真空环境,其控制系统主要为手动操作阶段,具有真空度性能不稳定和真空度控制精度不足等缺点,此外,还无法抵御突然断电或气路漏气等紧急情况的发生,并且还有系统布线复杂、成本高等问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种应用于质子治疗装置的真空控制系统,该系统能够对真空设备操作进行监视和控制。
本案中:1.系统抽真空稳定,维修费用低,使用寿命长;2.系统采用现场分布式模块和总线连接技术,解决了布线复杂和成本高的问题;
本发明的目的可以通过以下技术方案实现:
一种应用于质子治疗装置的真空控制系统,该真空控制系统包括:
用于系统监视和操作的人机界面;
接收、处理和发送控制信号的本地控制器;
连接多个Profinet信号的第一网络交换设备;
连接多个Profibus信号的第二网络交换设备;
采集现场气动阀门位置开关信号的现场分布式I/O模块。
进一步地,所述人机界面为西门子精致面板,与本地控制器通过Profinet通信连接,负责设定、保存并显示真空设备运行的参数,发出设备操作指令,并监视设备的运行状态和真空环境的状态。
进一步地,所述本地控制器为西门子S71500系列PLC,负责接收、处理和发出控制命令,并判断真空设备是否有故障,真空度是否满足需求。
进一步地,所述第一网络交换设备为路由器或交换机,以Profinet通信方式将现场分布式I/O模块和本地控制器连接在一起。
进一步地,所述第二网络交换设备为RS485中继器,以Profibus通信方式将分子泵、真空规分别和本地控制器连接在一起。
进一步地,所述气动阀门包括个角阀和个插板阀;所述气动阀门的位置开关信号以硬接线方式接入到现场分布式I/O模块,检测阀门目前处于打开或关闭状态,并将状态信号传送到本地控制器。
进一步地,通过人机界面和本地控制器启动每个相应区域的机械泵;所述机械泵通过中间继电器和接触器被本地控制器控制;机械泵抽低真空;
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