[发明专利]一种光酸化合物、包含其的光刻胶组合物及使用方法有效
申请号: | 201811268536.6 | 申请日: | 2018-10-29 |
公开(公告)号: | CN111103762B | 公开(公告)日: | 2023-05-02 |
发明(设计)人: | 王晓伟;李青松;王旭;韩红彦 | 申请(专利权)人: | 北京鼎材科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/022 | 分类号: | G03F7/022;G03F7/038 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋 |
地址: | 100192 北京市海淀区西*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 酸化 包含 光刻 组合 使用方法 | ||
1.一种光酸化合物,其特征在于,所述光酸化合物具有式(I)结构:
式(I)中,R1、R2、R3、R4、R5、R6均各自独立地选自重氮萘醌基团或氢原子,且R1、R2、R3、R4、R5、R6中至少有三个选自重氮萘醌基团;
式(I)中,R’1、R’2、R’3均各自独立地选自氢、羟基、C1~C12烷基、醚基、羧酸基、C6~C30芳基或C3~C30杂芳基中的任意一种;
所述重氮萘醌基团包括
2.一种光刻胶组合物,其特征在于,所述光刻胶组合物中包括权利要求1所述的光酸化合物。
3.根据权利要求2所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述光刻胶组合物还包括酚醛树脂、功能助剂和溶剂。
4.根据权利要求2所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述光刻胶组合物按照重量百分比包括如下组分:
5.根据权利要求3或4所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述酚醛树脂具有式(II)结构:
所述酚醛树脂的重均分子量为2000~15000。
6.根据权利要求3或4所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述功能助剂包括增感剂、流平剂、增粘剂、增塑剂和染料中的任意一种或至少两种组合。
7.根据权利要求3或4所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述溶剂包括二乙基碳酸酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸异丙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、乙酸甲基环己基酯、乙酸正壬酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇单乙醚醋酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇苯醚醋酸酯、乙二醇二乙酸酯、丙酸乙酯、丙酸正丁酯、丙酸异戊酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丁酯、乳酸正戊酯、丙二酸二乙酯、邻苯二甲酸二甲酯、邻苯二甲酸二乙酯、1,3-丙烷磺内酯、甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、正戊烷、异戊烷、正己烷、异己烷和正庚烷中的任意一种或至少两种组合。
8.一种根据权利要求2~7之一所述的光刻胶组合物的使用方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:
(1)将所述光刻胶组合物涂覆在基板上,成膜后,一次烘烤,降温至室温;
(2)对降温后的基板按预定图案进行曝光,用显影液显影,清洗后进行二次烘烤,得到光刻后的基板。
9.根据权利要求8所述的使用方法,其特征在于,所述曝光的光源为全波段光。
10.根据权利要求8所述的使用方法,其特征在于,所述涂覆的方式包括旋转涂布方式和/或刮涂方式。
11.根据权利要求8所述的使用方法,其特征在于,所述一次烘烤的温度为80~120℃。
12.根据权利要求8所述的使用方法,其特征在于,所述二次烘烤的温度为110~140℃。
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