[发明专利]一种受阻胺光稳定剂及其制备方法

说明书

本发明提供了一种新型受阻胺光稳定剂及其制备方法。该受阻胺光稳定剂具有光稳定效果优异；分子量大，耐抽提；碱性较低，与酚类抗氧剂具有良好协同作用的优势。同时本发明所述的制备方法操作简单、产品收率高、分子量分布窄。

技术领域

本发明涉及高分子材料领域，具体涉及一种新型受阻胺光稳定剂产品及其制备方法。

背景技术

随着人类生活质量以及生产技术水平的不断提高，高分子材料已经广泛应用到人类社会生活的各个领域。但高分子材料在加工、贮存和使用的过程中，普遍存在其物理性质、化学性质和力学性能会逐渐变差的现象。例如塑料的发黄、脆化与开裂；橡胶的发粘、硬化、龟裂及绝缘性能下降；纤维制品的变色、褪色、强度降低、断裂等现象。这些现象统称为高分子材料的老化或降解。造成高分子材料老化或降解的因素很多，其中以氧、光和热的影响最为显著。所以为了防止或延缓其老化，延长其使用寿命，人们通常将一些具有特定功能的化学助剂添加到高分子材料中。其中，光稳定剂就是一类能够干预高分子材料光诱导降解物理化学过程的化合物，是最常用也是最重要的高分子材料添加剂之一。

目前光稳定剂的品种主要包括二苯甲酮类、苯并三唑类、三嗪类紫外线吸收剂、镍盐类激发态猝灭剂和受阻胺类光稳定剂。例如专利CN101168527A、CN101381477A、CN105348525A、CN104829650A、CN103012843A、CN102432597A、CN1730454A等。其中，受阻胺光稳定剂因其优异的光稳定效果受到广泛的关注，是近二、三十年来国内外研究最活跃的一类光稳定剂。虽然这类光稳定剂开发的比较晚，但是发展迅速。目前国外应用的光稳定剂中受阻胺类光稳定剂已占60％左右。在国内，受阻胺类光稳定剂所占比重更高，约80％左右。

这些受阻胺光稳定剂虽然光稳定性能优良，但均存在平均相对分子量低、碱性高等缺点。低分子量的受阻胺光稳定剂最大缺陷是不耐抽提，使用过程中容易损失；而碱性高又使其难与酸性助剂复配，无法应用于聚氯乙烯、涂料等酸性环境中。

专利CN105153120A、CN105153121A分别公开了低碱性受阻胺光稳定剂及其制备方法。这些受阻胺光稳定剂具有低碱性，克服了常规受阻胺光稳定剂不能应用于酸性环境的局限。

本发明提供了一种新型的受阻胺光稳定剂，在提高或不损失其光稳定性能的前提下，提高产品的相对分子量，降低其碱性。

发明内容

为解决上述缺陷，本发明提供了一种哌啶系N-烷基取代受阻胺的聚合型受阻胺光稳定剂及其制备方法。

本发明提供了一种新型受阻胺光稳定剂，所述光稳定剂的结构式如式I所示，

其中，R₁和R₂彼此独立地选自C₁-C₂₀的烷基或C₃-C₁₂的环烷基；

Z选自直链或支化的C_2-20亚烷基，或至少一个C原子被氧或硫取代的直链或支化的C_2-20亚烷基链；

n选自2-12的整数。

优选的，所述R₁和R₂彼此独立地选自C₁-C₁₀的烷基或C₃-C₈的环烷基。

进一步优选的，所述C₁-C₁₀的烷基选自甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、2-乙基丁基、正戊基、异戊基、1-甲基戊基、1,3-二甲基丁基、正己基、1-甲基己基、正庚基、异庚基、1,1,3,3-四甲基丁基、1-甲基庚基、3-甲基庚基、正辛基、2-乙基己基、1,1,3-三甲基己基、1,1,3,3-四甲基戊基、壬基或癸基。