[发明专利]半导体大功率器件用铜-钼铜-铜复合材料及其制备方法有效
申请号: | 201811265541.1 | 申请日: | 2018-10-29 |
公开(公告)号: | CN109351976B | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 陈永明;章晓波;贺显聪;方信贤 | 申请(专利权)人: | 无锡乐普金属科技有限公司 |
主分类号: | B22F7/02 | 分类号: | B22F7/02;B22F3/18;B22F1/02;C23C18/40;C22C9/00;C22C27/04 |
代理公司: | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人: | 任利国 |
地址: | 214000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 大功率 器件 钼铜 复合材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种半导体大功率器件用铜-钼铜-铜复合材料的制备方法,其特征是,依次包括如下步骤:⑴在石墨烯的表面化学镀铜,烘干后获得镀铜石墨烯粉末;⑵将纯铜粉、钼粉和镀铜石墨烯粉末混合均匀后,轧制成片状的钼铜生坯;⑶将纯铜粉与镀铜石墨烯粉末混合均匀后,轧制成片状的铜生坯;⑷将钼铜生坯烧结成型,得到钼铜烧结坯;⑸将钼铜烧结坯多次轧制,使其厚度变形量达到40%以上,获得致密的含石墨烯的钼铜合金;⑹在钼铜合金的上下表面各放一层铜生坯,然后烧结成型,随炉冷却后获得铜-钼铜-铜复合烧结坯;⑺将铜-钼铜-铜复合烧结坯进行双衬板冷轧成型,总厚度变形量控制在10~35%,得到铜-钼铜-铜复合终轧坯;⑻将铜-钼铜-铜复合终轧坯去应力退火,获得半导体大功率器件用铜-钼铜-铜复合材料。
2.根据权利要求1所述的半导体大功率器件用铜-钼铜-铜复合材料的制备方法,其特征是,步骤⑴中利用敏化剂和活化剂对石墨烯进行敏化、活化预处理后,在次磷酸钠溶液体系中获得表面均匀镀铜的石墨烯,所述次磷酸钠溶液体系包括硫酸铜15g/L、硫酸镍1g/L、次磷酸钠35g/L、柠檬酸钠10g/L、硼酸20g/L和氢氧化钠,且溶液初始pH值为12.5。
3.根据权利要求1所述的半导体大功率器件用铜-钼铜-铜复合材料的制备方法,其特征是,步骤⑴中将装有次磷酸钠溶液体系的容器置于超声振动机中,并在容器两侧平行放置两个电磁铁,次磷酸钠溶液体系的温度为60~85℃,所述超声振动机的超声频率为50~80kHz,超声功率密度为2.0W/cm²~5.0W/cm²,磁场的强度为0.5~1.5T。
4.根据权利要求1所述的半导体大功率器件用铜-钼铜-铜复合材料的制备方法,其特征是,步骤⑵和步骤⑶中均采用机械混合的方式将各粉末混合均匀,然后利用粉末轧机分别将混合粉末轧制成钼铜生坯和铜生坯;钼铜生坯中含有石墨烯的质量分数为0.05~0.5%,铜的质量分数为5~30%,其余为钼;铜生坯中含有石墨烯的质量分数为0.05~0.5%,其余为铜。
5.根据权利要求4所述的半导体大功率器件用铜-钼铜-铜复合材料的制备方法,其特征是,步骤⑴中石墨烯外周镀铜层的厚度为20~30nm,步骤⑵的钼铜生坯中含有质量分数为0.2~0.3%的石墨烯,且铜的质量分数为20%;步骤⑶的铜生坯中含有质量分数为0.2~0.4%的石墨烯。
6.根据权利要求1所述的半导体大功率器件用铜-钼铜-铜复合材料的制备方法,其特征是,步骤⑷中钼铜烧结坯在氢气保护气氛中烧结成型,烧结温度为1085~1100℃;步骤⑹中铜-钼铜-铜在氢气保护气氛中烧结成型,烧结温度为1080~1085℃,升温速率均为300~450℃/h,保温时间均为0.5~1小时。
7.根据权利要求1所述的半导体大功率器件用铜-钼铜-铜复合材料的制备方法,其特征是,步骤⑻中铜-钼铜-铜复合终轧坯的退火升温速率为150~200℃/h,退火温度为500~600℃,保温时间为1~2小时。
8.根据权利要求1所述的半导体大功率器件用铜-钼铜-铜复合材料的制备方法,其特征是,步骤⑹中烧结前,铜生坯的长度为钼铜生坯长度的1.1倍,铜生坯的宽度为钼铜生坯宽度的1.1倍,各层厚度比例为铜:钼铜:铜=1:(1~5):1;步骤⑺中双衬板冷轧的轧制道次为2~4次。
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