[发明专利]扫描装置及其扫描方法、激光雷达有效
| 申请号: | 201811254267.8 | 申请日: | 2018-10-25 |
| 公开(公告)号: | CN109444848B | 公开(公告)日: | 2021-03-19 |
| 发明(设计)人: | 汪洋;向少卿 | 申请(专利权)人: | 上海禾赛科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G01S7/481 | 分类号: | G01S7/481 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 吴敏 |
| 地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 扫描 装置 及其 方法 激光雷达 | ||
1.一种扫描装置,包括:
第一扫描单元,所述第一扫描单元适宜于使入射光束的传播方向发生第一偏转形成出射光束,所述第一扫描单元通过转动或者摆动的方式改变所述第一偏转的偏转角度大小;
其特征正在于,还包括:
第二扫描单元,所述第二扫描单元位于所述入射光束和所述出射光束中至少一个的光路中,所述入射光束或所述出射光束透射所述第二扫描单元时,所述第二扫描单元基于电光效应使透射的光束的传播方向发生第二偏转以补偿延迟角;
所述出射光束适宜于形成从所述扫描装置出射的扫描光束,所述扫描光束经待探测目标反射形成回波光束。
2.如权利要求1所述的扫描装置,其特征在于,所述第二扫描单元包括电光晶体,所述电光晶体为线性电光晶体和非线性电光晶体中的至少一种。
3.如权利要求2所述的扫描装置,其特征在于,所述电光晶体为非线性电光晶体;所述电光晶体的二次电光系数的数量级在10-14m2/V2到10-15m2/V2范围内。
4.如权利要求2所述的扫描装置,其特征在于,所述电光晶体包括:钽铌酸钾晶体、钽铌酸钾锂晶体和钽铌酸钾钠晶体中的至少一种。
5.如权利要求1所述的扫描装置,其特征在于,所述第一扫描单元通过摆动的方式改变所述出射光束的传播方向,所述第一扫描单元包括:振镜和摆镜中的至少一种;
所述第一扫描单元通过转动的方式改变所述出射光束的传播方向,所述第一扫描单元包括:转镜。
6.如权利要求5所述的扫描装置,其特征在于,所述第一扫描单元具有绕第一扫描轴摆动的第一反射面;
所述第二扫描单元包括:第一电光晶体,所述第二偏转包括第一电光晶体使透射的光束绕第一偏转轴旋转;
所述第一偏转轴与所述第一扫描轴相平行。
7.如权利要求5所述的扫描装置,其特征在于,所述第一扫描单元具有绕第一扫描轴摆动的第一反射面以及绕第二扫描轴摆动的第二反射面,所述第一扫描轴与所述第二扫描轴不平行;
所述第一反射面的摆动频率与所述第二反射面的摆动频率的比值小于或等于预设值;
所述第二扫描单元包括:沿光路依次设置的第一电光晶体和第二电光晶体,所述第二偏转包括第一电光晶体使透射的光束绕第一偏转轴旋转;所述第二电光晶体使透射的光束绕第二偏转轴旋转;所述第一偏转轴与所述第二偏转轴不平行;
所述第一偏转轴平行于所述第一扫描轴;
所述第二偏转轴平行于所述第二扫描轴。
8.如权利要求5所述的扫描装置,其特征在于,所述第一扫描单元具有绕第一扫描轴摆动的第一反射面以及绕第二扫描轴摆动的第二反射面,所述第一扫描轴与所述第二扫描轴相互垂直;
所述第一反射面的摆动频率与所述第二反射面的摆动频率的比值大于预设值;
所述第二扫描单元包括:第一电光晶体,所述第二偏转包括第一电光晶体使透射的光束绕第一偏转轴旋转;所述第一偏转轴平行于所述第一扫描轴。
9.如权利要求1所述的扫描装置,其特征在于,所述第二扫描单元具有接收光束入射的输入面;光束垂直投射至所述输入面。
10.如权利要求1所述的扫描装置,其特征在于,所述第二扫描单元包括电光晶体;所述电光晶体接收调制电压以实现所述第二偏转;所述调制电压小于100V。
11.如权利要求1所述的扫描装置,其特征在于,所述回波光束经采集形成收集光束;
所述收集光束经所述第一扫描单元和所述第二扫描单元偏转以形成信号光束;
所述收集光束与所述入射光束共路。
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