[发明专利]一种低偏振像差分色片及其制备方法有效
| 申请号: | 201811249996.4 | 申请日: | 2018-10-25 |
| 公开(公告)号: | CN109212644B | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
| 发明(设计)人: | 王利;周于鸣;刘晓林;雷文平;王刚;白云立;于建海;肖正航;张继友 | 申请(专利权)人: | 北京空间机电研究所 |
| 主分类号: | G02B5/26 | 分类号: | G02B5/26 |
| 代理公司: | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人: | 张丽娜 |
| 地址: | 100076 北京市丰*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 偏振 分色 及其 制备 方法 | ||
1.一种低偏振像差分色片,其特征在于:该分色片包括基底、二氧化钛层和二氧化硅层;
所述的基底为透明玻璃材料、K9或石英;
二氧化钛层的材料为二氧化钛薄膜;
二氧化硅层的材料为二氧化硅薄膜;
基底上方共四十六层,第一层为二氧化钛层,第二层为二氧化硅层,第三层为二氧化钛层,第四层为二氧化硅层,第五层为二氧化钛层,第六层为二氧化硅层,…,第四十五层为二氧化钛层,第四十六层为二氧化硅层;
每层的厚度如表1所示;
表1
。
2.一种权利要求1所述的低偏振像差分色片的制备方法,其特征在于该方法的步骤包括:
(1)采用物理气相沉积法在基底上沉积第一层二氧化钛层;
(2)在步骤(1)得到的第一层上采用物理气相沉积法沉积第二层二氧化硅层;
(3)在步骤(2)得到的第二层上采用物理气相沉积法沉积第三层二氧化钛层;
(4)在步骤(3)得到的第三层上采用物理气相沉积法沉积第四层二氧化硅层;
…
(5)在得到的第四十五层上采用物理气相沉积法沉积第四十六层二氧化硅层。
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