[发明专利]一种解除储层水锁、堵塞的配套药剂及工艺在审
| 申请号: | 201811216939.6 | 申请日: | 2018-10-18 |
| 公开(公告)号: | CN109181669A | 公开(公告)日: | 2019-01-11 |
| 发明(设计)人: | 张富强 | 申请(专利权)人: | 陕西新奥石油工程有限公司 |
| 主分类号: | C09K8/528 | 分类号: | C09K8/528 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 710016 陕西省西安市未*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 水锁 配套药剂 气井 堵塞 制备 两性离子表面活性剂 阳离子表面活性剂 有机硅表面活性剂 石油化工技术 铁离子稳定剂 乙二醇单丁醚 有效渗透率 表面活性 吸附能力 岩石表面 岩石吸附 缓蚀剂 耐高温 耐高盐 能力强 氢氟酸 质量份 醇类 解锁 气液 盐酸 扩散 | ||
本发明涉及石油化工技术领域,具体的涉及一种解除储层水锁、堵塞的配套药剂及工艺;其药剂的组成包括以下物质:按质量份数计的4‑15份的阳离子表面活性剂、3‑6份的两性离子表面活性剂、10‑15份的乙二醇单丁醚、5‑15份的盐酸、4‑10份的氢氟酸、1‑3份的缓蚀剂、1‑2份的铁离子稳定剂、2‑8份的有机硅表面活性剂、50‑70份的醇类、5‑20份的水。本发明的解水锁剂具有制备方便、表面活性强、耐高温、耐高盐、岩石吸附性强、成本低等优势,同时本发明制备的解锁剂产品在该工艺下,药剂进入储层扩散能力强、在岩石表面吸附能力强,能有效的解除气井储层水锁及堵塞,并能保持长期有效提高气井储层气液有效渗透率。
技术领域
本发明属于石油化工技术领域,具体涉及一种解除储层水锁、堵塞的配套药剂及工艺。
背景技术
塔河凝析气藏储层易敏感,气井因井筒积液或者外来入井液的入侵易发生水锁。因此需要考虑水锁影响气井产能的效率,气井水锁后具有较高的启动压力,只有研制出适合的解水锁剂才能有效的提高气井产能的效率。
中国专利申请CN107142098A公开了本发明公开了一种解水锁剂及其制备方法,所述解水锁剂至少包括如下组分:经脂肽生物表面活性剂改性而获得的第一改性纳米二氧化硅、经氟碳表面活性剂改性而获得的第二改性纳米二氧化硅、以及乙二醇和水,其中,所述第一改性纳米二氧化硅的重量百分比为0.1~0.5%,所述第二改性纳米二氧化硅的重量百分比为0.5~1.0%,所述乙二醇的重量百分比为10~30%,余量为水,并且所述第一改性纳米二氧化硅、所述第二改性纳米二氧化硅、所述乙二醇和水通过所述解水锁剂的注入设备按比例注入且各组分在所述注入设备中混合以形成所述解水锁剂,但其不能能保持长期有效提高气井储层气液有效渗透率。
中国专利申请CN105733543A公开了本发明公开了一种用于解除低含水油井水锁伤害的解水锁剂,由原始粒度为15-30nm的纳米二氧化硅和乙二醇一丁醚构成,其中纳米二氧化硅占总重量的1%-5%。当解水锁剂与水的体积比大于1∶1时,在6小时内可以解水锁剂通过增溶水相和油相,可将油水两相变为一相,从而消除两相渗流阻力,而纳米二氧化硅可以增强岩石表面的亲水性,使得游离水吸附到岩石表面形成水膜,从而增大油相相对渗透率,降低油相渗流的启动压力。对于发生水锁伤害的油井,根据洗井作业过程中记录的洗井液漏失量,通过油套环空向地层中注入与漏失水量相同体积的解水锁剂,关井6小时以上再开井生产可有效的解除低含水油井的水锁伤害,但其不能能保持长期有效提高气井储层气液有效渗透率。
针对上述专利存在的问题,本发明研发了一种泡沫排水采气用防冻、抗凝析油、抗钙镁离子起泡剂能够很好的满足市场对泡沫排水剂的需求。
发明内容
为了达到背景技术中的目的,本发明提出的一种解除储层水锁、堵塞的配套药剂及工艺;
本发明通过如下的技术方案实现的:
一种解除储层水锁、堵塞的配套药剂及工艺,其特征在于:一种解除储层水锁、堵塞的配套药剂的组成包括以下物质:按质量份数计的4-15份的阳离子表面活性剂、3-6份的两性离子表面活性剂、10-15份的乙二醇单丁醚、5-15份的盐酸、4-10份的氢氟酸、1-3份的缓蚀剂、1-2份的铁离子稳定剂、2-8份的有机硅表面活性剂、50-70份的醇类、5-20份的水。
其中,所述的解除储层水锁、堵塞的配套药剂的制备方法为为:
(1)分别称取按质量份数计的,4-15份的阳离子表面活性剂、3-6份的两性离子表面活性剂、10-15份的乙二醇单丁醚、5-15份的盐酸、4-10份的氢氟酸、1-3份的缓蚀剂、1-2份的铁离子稳定剂、2-8份的有机硅表面活性剂、50-70份的醇类、5-20份的水作为备用原料;
(2)取步骤(1)中量取的醇类、阳离子表面活性剂、两性离子表面活性剂3-6%、乙二醇单丁醚分别加入反应釜中进行搅拌,反应釜温度控制在30-40℃;
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