[发明专利]一种二维可独立连续调节的全光光路控制方法及其装置有效
| 申请号: | 201811206555.6 | 申请日: | 2018-10-17 |
| 公开(公告)号: | CN109212862B | 公开(公告)日: | 2022-07-01 |
| 发明(设计)人: | 陆大全;陈娟;蔡桂琴;胡巍 | 申请(专利权)人: | 华南师范大学 |
| 主分类号: | G02F1/35 | 分类号: | G02F1/35 |
| 代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
| 地址: | 510006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 二维 独立 连续 调节 光光 控制 方法 及其 装置 | ||
1.一种二维可独立连续调节的全光光路控制方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1.产生同偏振、同频率、同传输方向的一束基模高斯光束和一束(0,1)模拉盖尔高斯光束;
S2.使产生的基模高斯光束和(0,1)模拉盖尔高斯光束同心相干叠加于非线性介质入射面;
S3.通过调节两光束的比例系数b和相位差δ来分别调节非线性介质中复合场的重心偏离初始位置的大小和方向,从而实现二维可独立连续调节的全光光路控制。
2.一种二维可独立连续调节的全光光路控制装置,其特征在于,包括激光光源、a分束镜、b分束镜、a反射镜、b反射镜、涡旋相位板、相位延迟器、a衰减片、b衰减片、a缩束器、b缩束器、非线性体介质;
由激光光源所发出的初始基模高斯光束经a分束镜分为两束,其中一束为基模高斯光束,另一束经过涡旋相位板后变成(0,1)模拉盖尔高斯光束;
其中的基模高斯光束经相位延迟器、a反射镜、a衰减片后进入a缩束器,其中的(0,1)模拉盖尔高斯光束经b反射镜、b衰减片后进入b缩束器,基模高斯光束和(0,1)模拉盖尔高斯光束分别经过a缩束器和b缩束器后通过b分束镜在非线性介质的入射面形成带有横向动量的复合光束。
3.根据权利要求2所述的二维可独立连续调节的全光光路控制装置,其特征在于,通过联合调节a衰减片和b衰减片来连续调节比例系数b,从而实现对复合光束重心偏离大小的独立连续控制;通过调节相位延迟器来连续调节两光路相位差δ,从而实现对复合光束重心偏离方位角的独立连续控制。
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