[发明专利]一种自由曲面公差的分析方法有效
| 申请号： | 201811199643.8 | 申请日： | 2018-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN109212751B | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 高阳;张海军;刘龙飞;姬强;周亮;李卓;龙尤 | 申请（专利权）人： | 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京清大紫荆知识产权代理有限公司 11718 | 代理人： | 张艳 |
| 地址： | 471026 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 自由 曲面 公差 分析 方法 | ||
1.一种自由曲面公差的分析方法，所述分析方法用于指导自由曲面加工，其特征在于：针对由特定公式描述的自由曲面，通过公式系数唯一确定一个自由曲面面型；
根据设计目标进行自由曲面的公差分析，明确自由曲面面型偏差的容许范围；
根据加工工艺特性，确定各项系数值公差范围对应的概率密度分布函数；
当随机样本数不足时，按照期望值和公差范围生成自由曲面的随机面型样本，以密集的曲面点坐标的形式描述随机样本；将设计面型同样以密集的曲面点坐标的形式描述，并与随机样本的曲面点坐标对比，分析得出随机样本相对于设计面型的PV值；循环直到判断随机样本数足够为止；
将所述公式的公式系数的公差，通过统计方法转换为PV值公差。
2.根据权利要求1所述的分析方法，其特征在于：根据光学设计软件的分析结果确定所述公式系数的公差。
3.根据权利要求1所述的分析方法，其特征在于：基于所述公式系数的公差按照概率密度分布函数对所述公式系数进行随机扰动。
4.根据权利要求3所述的分析方法，其特征在于：基于所述公式系数的公差作为3倍标准差按照正态分布函数对所述公式系数进行随机扰动。
5.根据权利要求1所述的分析方法，其特征在于：对所述公式系数引入随机扰动并进行批量分析计算，在统计分析后将所述公式系数的公差转换成PV值公差。
6.根据权利要求5所述的分析方法，其特征在于：所述统计分析的样本数为1万以上。
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