[发明专利]MEMS样品纵向截面的制备方法及形貌观察方法

权利要求书

1.一种MEMS样品纵向截面的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

获取MEMS样品；

冷却所述MEMS样品结构中的聚酰亚胺层；

对所述MEMS样品进行裂片处理，形成所述MEMS样品的纵向截面，露出需观察的层次结构。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述冷却所述MEMS样品结构中的聚酰亚胺层的步骤是：利用液氮冷却所述MEMS样品结构中的聚酰亚胺层。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述获取MEMS样品的步骤包括：

利用金刚石对MEMS硅片进行裂片处理，从所述MEMS硅片中得到含有需要观察形貌区域的部分MEMS硅片；

按照目标尺寸，利用手动裂片仪对所述部分MEMS硅片进行裂片处理，形成为所述目标尺寸的所述MEMS样品。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，利用手动裂片仪对所述部分MEMS硅片进行裂片处理之前的步骤包括：将所述部分MEMS硅片浸泡在液氮中，冷却所述部分MEMS硅片结构中的聚酰亚胺层。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，

所述将所述部分MEMS硅片浸泡在液氮中，冷却所述部分MEMS硅片表面的聚酰亚胺层之前的步骤包括：利用保温层包裹住所述部分MEMS硅片中不需要观察形貌的区域，并令剩余区域暴露在空气中；

所述将所述部分MEMS硅片浸泡在液氮中，冷却所述部分MEMS硅片结构中的聚酰亚胺层的步骤是：将所述部分MEMS硅片浸泡在液氮中，冷却暴露于空气中的所述部分MEMS硅片结构中的聚酰亚胺层；

所述将所述部分MEMS硅片浸泡在液氮中，冷却所述部分MEMS硅片表面的聚酰亚胺层之后的步骤包括：去除所述保温层；

所述按照所述目标尺寸，利用手动裂片仪对所述部分MEMS硅片进行裂片处理，形成为所述目标尺寸的所述MEMS样品的步骤则是在所述部分MEMS硅片中浸泡了液氮的区域内，形成为所述目标尺寸的所述MEMS样品。

6.根据权利要求3-5任一项所述的方法，其特征在于，

所述对所述MEMS样品进行裂片处理，形成所述MEMS样品的纵向截面的步骤是利用MC600裂片仪对所述MEMS样品进行裂片，形成所述MEMS样品的纵向截面。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述利用液氮冷却所述MEMS样品结构中的聚酰亚胺层的步骤包括：

在所述MC600裂片仪内装入液氮，利用所述MC600裂片仪对所述MEMS样品喷射液氮。

8.根据权利要求3-5和7中任一项所述的方法，其特征在于，所述利用手动裂片仪对所述部分MEMS硅片进行裂片处理，形成所述MEMS样品的步骤是根据PCM图形，利用手动裂片仪对所述部分MEMS硅片进行裂片处理，形成所述MEMS样品。

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述按照所述目标尺寸，利用手动裂片仪对所述部分MEMS硅片进行裂片处理，形成所述MEMS样品的步骤包括：

获取MC600裂片仪所能处理器件的固有尺寸参数；

按照所述固有尺寸参数进行裂片处理，获取目标尺寸为所述固有尺寸参数的MEMS样品。

10.一种MEMS样品纵向截面的形貌观察方法，其特征在于，所述方法包括：

利用如权利要求1-9任一项所述的方法形成MEMS样品的纵截面；

利用扫描电镜观察所述MEMS样品的纵截面形貌。