[发明专利]一种加强硼硅玻璃与丙烯酸UV胶附着力的清洗工艺

说明书

本发明提供了一种加强硼硅玻璃与丙烯酸UV胶附着力的清洗工艺，包括：将硼硅玻璃采用第一清洗液超声清洗，所述第一清洗液为水基碱性清洗剂；将第一清洗液清洗后的硼硅玻璃进行水洗；将水洗后的硼硅玻璃采用第二清洗液浸泡；将浸泡后的硼硅玻璃脱水烘干。本发明采用碱性清洗剂清洗，水洗，特定的酸性清洗剂浸泡的方式对硼硅玻璃表面进行改进，使得提高硼硅玻璃与丙烯酸UV胶附着力；本发明以氟化氢氨为主剂，在氨基磺酸、苯并三氮唑、OPE和EDTA等的辅助下，对产品表面进行粗化，以此来改善硼硅玻璃与丙烯酸UV胶的结合力，同时不影响玻璃表面的外观以及产品的透过率和反应率等。本发明的方法简单、效率高、良率稳定。

技术领域

本发明涉及玻璃清洗技术领域，尤其是涉及一种加强硼硅玻璃与丙烯酸UV胶附着力的清洗工艺。

背景技术

随着社会的进步，玻璃在各种电子产品、电子元件上的应用日趋广泛，根据各种产品或元件的性能要求，需要不同的加工工艺来满足，许多新的工艺及技术就需要重新开发设计；其中一种手机元件导光柱用硼硅玻璃来加工完成的，这是一种全新的尝试，为了达到导光柱的性能要求，需要在硼硅玻璃上附着丙烯酸UV胶来完成，该工艺面临的第一个难题就是硼硅玻璃与丙烯酸UV胶的结合力很差；为了使导光柱产品顺利的生产出来，开发一种用于加强硼硅玻璃与丙烯酸UV胶附着力的清洗工艺来满足生产需求就非常必要了。

发明内容

有鉴于此，本发明要解决的技术问题在于提供一种加强硼硅玻璃与丙烯酸UV胶附着力的清洗工艺，本发明的清洗工艺硼硅玻璃与丙烯酸UV胶附着力好，同时不影响硼硅玻璃的透过率和反射率。

本发明提供了一种加强硼硅玻璃与丙烯酸UV胶附着力的清洗工艺，包括：

A)将硼硅玻璃采用第一清洗液超声清洗，所述第一清洗液为水基碱性清洗剂；

B)将第一清洗液清洗后的硼硅玻璃进行水洗；

C)将水洗后的硼硅玻璃采用第二清洗液浸泡；所述第二清洗液包括以下质量分数的组分：

氟化氢氨 10％～15％；

氨基磺酸 2％～5％；

苯丙三氮唑 0.5％～1％；

OEP 3％～5％；

EDTA 0.5％～1.5％；

余量为水；

D)将浸泡后的硼硅玻璃脱水烘干。

优选的，步骤A)所述超声清洗为单槽超声波清洗。

优选的，步骤A)所述清洗温度为55～60℃；所述清洗时间为60～70s。

优选的，所述第一清洗液包括以下质量分数的组分：

氢氧化钠 10～15％；

葡萄糖酸钠 5～8％；

硅酸钠 4～6％；

EDTA-2Na 1～3％；

脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠8～10％；

余量为水。

优选的，所述第一清洗液使用的浓度为2％。

优选的，所述第二清洗液包括以下质量分数的组分：

氟化氢氨 11％～14％；

氨基磺酸 3％～4.5％；

苯丙三氮唑 0.6％～0.9％；

OEP 3.5％～4.5％；

EDTA 0.6％～1.3％；