[发明专利]抗反射膜

权利要求书

1.一种抗反射膜，包括：厚度为0.1μm至100μm的硬涂层；和低折射层，所述低折射层包含粘合剂树脂以及分散于所述粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒，

其中所述低折射层包括在550nm处的折射率为1.420至1.600的第一层和在550nm处的折射率为1.200至1.410的第二层，其中所述第一层定位为比所述第二层更靠近所述硬涂层与所述低折射层之间的界面，

其中所述第一层包含全部实心无机纳米颗粒的至少70体积％和所述第二层包含全部中空无机纳米颗粒的至少70体积％，以及

其中，在使用由以下一般方程式1表示的柯西模型对包括在所述低折射层中的所述第二层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度进行拟合时，所述第二层满足以下条件：A为1.0至1.50，B为0至0.007，并且C为0至1×10^-3：

[一般方程式1]

在一般方程式1中，n(λ)为波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内，以及A、B和C为柯西参数。

2.根据权利要求1所述的抗反射膜，

所述第一层位于距离所述硬涂层与所述低折射层之间的界面的所述低折射层总厚度的50％以内。

3.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中

在使用由一般方程式1表示的柯西模型对包括在所述低折射层中的所述第一层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度进行拟合时，所述第一层满足以下条件：A为1.0至1.65，B为0.0010至0.0350，并且C为0至1×10^-3：

[一般方程式1]

在一般方程式1中，n(λ)为波长为λ时的折射率，λ在300nm至1800nm的范围内，以及A、B和C为柯西参数。

4.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述实心无机纳米颗粒的密度比所述中空无机纳米颗粒的密度高至少0.50g/cm³。

5.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中包含在所述低折射层中的所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物的(共聚)聚合物与含有光反应性官能团的含氟化合物的交联(共聚)聚合物。

6.根据权利要求5所述的抗反射膜，

其中，基于100重量份的所述可光聚合化合物的(共聚)聚合物，所述低折射层包含10重量份至400重量份的所述中空无机纳米颗粒和10重量份至400重量份的所述实心无机纳米颗粒。

7.根据权利要求5所述的抗反射膜，其中

所述含有光反应性官能团的含氟化合物的重均分子量为2000至200000。

8.根据权利要求5所述的抗反射膜，其中

基于100重量份的所述可光聚合化合物的(共聚)聚合物，所述粘合剂树脂包含20重量份至300重量份的所述含有光反应性官能团的含氟化合物。

9.根据权利要求1所述的抗反射膜，

其中所述硬涂层包含含有可光固化树脂的粘合剂树脂和分散于所述粘合剂树脂中的有机细颗粒或无机细颗粒。

10.根据权利要求1所述的抗反射膜，

其中所述第一层的厚度为1nm至50nm，以及

所述第二层的厚度为5nm至300nm。