[发明专利]真空室及等离子体装置

权利要求书

1.一种真空室，装配有等离子体限制器，等离子体限制器包括热沉体，所述热沉体呈空心圆柱状，内部沿高度方向上开设有冷却水道，端部设有进出水道口，进出水道口上安装有热沉水嘴，热沉体外设有热沉屏蔽组件，所述真空室包括安装在真空室内壁、沿周向分布的水冷导轨，等离子体限制器设置在相对的两根水冷导轨之间，水冷导轨包括水平设置在等离子体限制器上下两侧的导轨座，导轨座背离于等离子体限制器的一面上开设有穿过真空室外壁的导轨水嘴，导轨座内设有可与导轨水嘴相通的水道凹槽，导轨座朝向等离子体限制器的一面上设有定位凹槽，等离子体限制器与导轨座之间设有调整组件，用于调整等离子体限制器在导轨座上的安装位置，其特征在于：所述调整组件包括凹形卡块，凹形卡块的开口侧朝向导轨座，两端设有紧固螺栓，拧紧紧固螺栓可将凹形卡块卡装在导轨座上，凹形卡块的闭口侧上穿设有调整螺钉，调整螺钉具有沿凹形卡块上下移动的自由度，调整螺钉通过位于调整螺钉与导轨座之间的锁紧螺母实现定位，调整螺钉的伸出端可配合顶设在导轨座的定位凹槽中，从而实现等离子体限制器位置的固定。

2.根据权利要求1所述的真空室，其特征在于：所述热沉水嘴接在为热沉体提供/排出冷却水的管路系统中。

3.根据权利要求2所述的真空室，其特征在于：所述管路系统包括过渡水管、钢丝铠装波纹管，过渡水管穿过真空室壁，一端与真空室外侧水路连接，一端与钢丝凯装波纹管一端连接，钢丝铠装波纹管的另一端与热沉水嘴连接。

4.根据权利要求3所述的真空室，其特征在于：所述管路系统还包括屏蔽罩，屏蔽罩通过螺钉固定在热沉体上，屏蔽罩由高熔点、塑性好的金属制成。

5.根据权利要求4所述的真空室，其特征在于：所述屏蔽罩的材质为金属钽材料。

6.根据权利要求1所述的真空室，其特征在于：所述热沉体由两块具有圆弧槽的同心无氧铜圆板通过真空钎焊焊接形成，热沉屏蔽组件包括热沉屏蔽一及热沉屏蔽二，热沉屏蔽一及热沉屏蔽二位于热沉体的两端，通过螺栓及螺母连接在热沉体上，热沉屏蔽一中心设有凸台阶、热沉屏蔽二中心设有凹台阶，凸台阶与凹台阶紧密配合，配合间隙0.05～0.5mm，上述热沉屏蔽一、热沉屏蔽二、螺栓及螺母的材质均为钼合金，热沉水嘴的材料是不锈钢，通过真空钎焊与热沉体进行异种金属连接。

7.一种等离子体装置，由权利要求1所述的真空室串联而成，其特征在于：所述真空室的端口法兰处均设有靶标座安装部，靶标座安装部沿法兰周向均布，激光测量用靶标座安装在靶标座安装部上，激光测量用靶标座通过测量，为等离子体限制器的位置调整提供基准。