[发明专利]图像形成设备、图像形成设备的控制方法和存储介质有效

专利信息
申请号: 201811190778.8 申请日: 2018-10-12
公开(公告)号: CN109660689B 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 新妻央章 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H04N1/00 分类号: H04N1/00
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图像 形成 设备 控制 方法 存储 介质
【说明书】:

发明涉及一种图像形成设备、图像形成设备的控制方法和存储介质。该图像形成设备包括:电源单元,其具有功率因数校正电路即PFC电路;半导体集成电路,其包括至少一个用于进行图像处理的模块;以及第一电源控制单元,其被配置为控制是接通还是断开所述PFC电路的电力,并且控制输入到所述半导体集成电路中的电力控制信号,以使得在所述半导体集成电路中的所述模块的电力接通的情况下,所述PFC电路的电力接通。

技术领域

本发明涉及用于控制电源以降低电力消耗的图像形成设备、图像形成设备的控制方法和存储介质。

背景技术

在诸如具有复印、打印和扫描等功能的多功能打印机等的利用从商用电源供给的电力工作的图像形成设备中,在该图像形成设备内设置被配置为将交流电源转换成直流电源的电源单元。在诸如该图像形成设备等的图像形成设备中,例如,在诸如打印作业等的作业的执行时消耗了大到1kW的电力,但另一方面,在作业的待机时,电力消耗降低到1W以下。

鉴于诸如该图像形成设备等的图像形成设备中的电力消耗的情形,传统上,在该图像形成设备的电源单元上安装PFC(功率因数校正)电路。该PFC电路是通过对所输入的交流电源的电流波形中的干扰进行整形并且通过使该波形类似于电压波形来改善功率因数的电路,使得可以通过减少对电源线路的谐波分量来防止噪声故障的发生并且提高电力消耗效率。

这里,在具有诸如1W等的低电力消耗的图像形成设备中,几乎不存在由于谐波分量引起的故障,因此即使在PFC电路断开的情况下也不会造成故障。另外,相反,为了在电源单元中将待机时的电力消耗降低到1W以下,通过断开PFC电路来降低交流侧的电力损耗是有效的。

然而,与PFC电路接通的情况下电源单元中可以供给的电力的上限相比,PFC电路断开的情况下电源单元中可以供给的电力的上限受到限制。由于此,在PFC电路断开的情况下,需要将图像形成设备的各种装置的总电力消耗抑制成电源单元中可以供给的电力的上限内。

然后,与此有关地,已知在图像形成设备上所安装的半导体集成电路中电力消耗相对较大,并且另外,还已知有用以降低半导体集成电路中的电力消耗的技术。例如,日本特开2009-134576公开了通过利用半导体集成电路内部的控制单元切断供给至未在使用中的功能模块的电源来降低半导体集成电路中的电力消耗的技术。

然而,日本特开2009-134576中公开的技术假定利用半导体集成电路内部的控制单元(CPU)来切断功能模块的电源的结构,因此在向CPU施加重负荷的情况下,不再可能切断功能模块的电源。由于此,在不能控制(切断)半导体集成电路内部的功能模块的电源的状态下断开PFC电路的情况下,供给了超过电源单元中可以供给的电力的上限的电力。

发明内容

根据本发明,在将诸如安装有半导体集成电路的图像形成设备等的电子装置的电力消耗抑制到包括PFC电路的电源单元中许可的供给电力的上限内的前提下,与能否进行自半导体集成电路内部的电源的控制无关地,电力消耗降低。

为了实现上述目的,本发明的一种图像形成设备,包括:电源单元,其具有功率因数校正电路即PFC电路;半导体集成电路,其包括用于进行图像处理的至少一个模块;以及第一电源控制单元,其被配置为控制是接通还是断开所述PFC电路的电力,并且控制输入到所述半导体集成电路中的电力控制信号,以使得在所述半导体集成电路中的所述模块的电力接通的情况下,所述PFC电路的电力接通。

本发明的一种图像形成设备的控制方法,所述图像形成设备包括:电源单元,其具有功率因数校正电路即PFC电路;第一电源控制单元,其被配置为控制所述PFC电路的电力;以及半导体集成电路,其包括用于进行图像处理的至少一个模块,其中所述第一电源控制单元和所述半导体集成电路利用电力控制信号连接,所述控制方法包括在使所述图像形成设备转变为省电模式的情况下:利用所述第一电源控制单元控制所述电力控制信号以断开所述模块的电力的步骤;以及利用所述第一电源控制单元进行控制以断开所述PFC电路的电力的步骤。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811190778.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top