[发明专利]光学元件、光学系统、和摄像设备有效
申请号: | 201811190764.6 | 申请日: | 2018-10-12 |
公开(公告)号: | CN109655944B | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 奥野丈晴 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;G02B1/111 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 元件 光学系统 摄像 设备 | ||
本发明涉及光学元件、光学系统和摄像设备。光学元件包括多个基材、将多个基材彼此接合的粘接剂、和设置到光学元件的入射面和出射面中的至少一者的防反射膜。防反射膜包括第一层,该第一层包含具有醚键和酯键中的至少一种、具有4~7个碳原子、具有支化结构的醇。第一层中的醇的含量为0.5mg/cm3~5.0mg/cm3。第一层对波长为550nm的光的折射率为1.1~1.3。
技术领域
本发明涉及各自具有防反射膜的光学元件、光学系统和摄像设备(或成像设备)。
背景技术
诸如照相机透镜等光学系统用的传统的光学元件的表面具有防反射膜,其用于抑制由于入射光的光量损失降低和反射而引起的诸如闪光(flare)和重影(ghost)等不必要的光。日本专利特开No.(“JP”)2012-078597公开了一种包括具有纳米多孔二氧化硅膜的低折射率层的防反射膜。
诸如照相机透镜等光学系统有时使用其中多个透镜通过粘接剂彼此贴合的接合透镜。JP2012-002888公开了一种通过使用湿法在接合透镜上形成防反射膜的方法。
在使用JP2012-078597中公开的方法于接合透镜上形成湿膜的尝试中,湿膜涂布后的高温干燥和热处理使接合粘接剂改变或变黄、或者引起透过率变化。另外,两个透镜的玻璃材料之间的线性膨胀系数差可能使粘接剂剥离,或使透镜变形(扭曲)或龟裂等。
JP2012-002888公开了用于在通过湿法成膜时防止涂布液溶解透镜接合面上的粘接剂的透镜和夹具的形状,但是关于涂布液的组成和涂布后热处理没有记载。
发明内容
本发明提供一种具有能够防止粘接剂改变和剥离并且抑制光学性能劣化的防反射膜的光学元件。
根据本发明一方面的光学元件包括多个基材、将所述多个基材彼此接合的粘接剂、和设置到所述光学元件的光入射面和光出射面中的至少一者的防反射膜。所述防反射膜包括第一层,所述第一层包含具有醚键和酯键中的至少一种、具有4~7个碳原子、具有支化结构的醇。第一层中的所述醇的含量为0.5mg/cm3~5.0mg/cm3。第一层对于波长为550nm的光的折射率为1.1~1.3。
参照附图,本发明的进一步特征将从以下示例性实施方案的描述中变得显而易见。
附图说明
图1是作为根据本发明一个实施方案的说明性光学元件的接合透镜的截面图。
图2为防反射膜的示意性截面图。
图3为低折射率层的示意图。
图4为链状颗粒的示意图。
图5为根据实施例1的接合透镜的截面图。
图6为根据实施例1的低折射率层的电子显微镜照片。
图7A和7B为说明根据实施例1的防反射膜的反射率特性的图。
图8为根据实施例2的接合透镜的截面图。
图9A和9B为说明根据实施例2的防反射膜的反射率特性的图。
图10为根据实施例3的接合透镜的截面图。
图11A和11B为说明根据实施例3的防反射膜的反射率特性的图。
图12为根据实施例4的光学系统的截面图。
图13A和13B为说明根据实施例4的防反射膜的反射率特性的图。
具体实施方式
现在参照附图,将给出本发明的实施方案的描述。在各个图中,相同的元件将由相同的附图标记指定,并且将省略其重复的描述。
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