[发明专利]含金属的CHA型沸石和其制造方法

说明书

提供氮氧化物还原特性优异、不同于以往的含金属的CHA型沸石和其制造方法。提供一种含金属的CHA型沸石，其特征在于，在IR光谱中，3685cmsupgt;‑1/supgt;以上且3750cmsupgt;‑1/supgt;以下的范围中的吸收峰的最大强度相对于1800cmsupgt;‑1/supgt;以上且1930cmsupgt;‑1/supgt;以下的范围中的吸收峰的最大强度之比低于1.5。这样的含金属的CHA型沸石优选通过一种制造方法得到，所述制造方法的特征在于，具备将金属源与CHA型沸石进行混合的含金属的工序，所述CHA型沸石的IR光谱中的3665cmsupgt;‑1/supgt;以上且3750cmsupgt;‑1/supgt;以下的范围中的吸收峰相对于1800cmsupgt;‑1/supgt;以上且1930cmsupgt;‑1/supgt;以下的范围中的吸收峰的强度比低于1.5。

技术领域

本发明涉及含金属的CHA型沸石和其制造方法。特别是涉及作为氮氧化物还原催化剂、且适于工业利用的含金属的CHA型沸石和其制造方法。

背景技术

CHA型沸石(菱沸石型沸石)是含形成有的细孔的氧八元环且具有三维细孔结构的沸石。CHA型沸石在天然中也存在，但二氧化硅相对于氧化铝的摩尔比高的CHA型沸石仅以人工合成(例如专利文献1至4、非专利文献1和2)。

二氧化硅相对于氧化铝的摩尔比高的CHA型沸石被用作各种催化剂。催化剂用途中，被广泛用作基于选择性催化还原的氮氧化物还原催化剂(专利文献5至8)。

例如公开了如下内容：将作为特定的结构导向剂的N,N,N-三甲基环己基铵氢氧化物和晶种组合使用而得到的CHA型沸石与以往的SSZ-62相比，成为适于SCR催化剂的CHA型沸石(专利文献8)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：美国专利4,544,538号

专利文献2：美国专利4,665,110号

专利文献3：美国专利公开2007/0100185号

专利文献4：美国专利公报2011/0251048号

专利文献5：美国专利公开2003/0069449号

专利文献6：美国专利公开2011/0182790号

专利文献7：美国专利公开2010/0092362号

专利文献8：国际公开2013/182974号

非专利文献

非专利文献1：J.Phys.Chem.C，114(2010)1633-1640

非专利文献2：ZEOLITES，Vol.8(1988)166-174

发明内容

发明要解决的问题

本发明的目的在于，提供：氮氧化物还原特性优异、不同于以往的含金属的CHA型沸石和其制造方法。

用于解决问题的方案

本发明人对适合作为氮氧化物还原催化剂的含金属的CHA型沸石进行了研究。其结果发现：具有不同于以往的CHA型沸石的IR光谱的含金属的CHA型沸石、和这样的含金属的CHA型沸石的氮氧化物还原特性优异，完成了本发明。

即，本发明的主旨如以下所述。