[发明专利]一种利于边坡植物生长的植生毯结构

说明书

本发明涉及一种利于边坡植物生长的植生毯结构，包括覆盖层、播种基质层、根系固定层、底部阻隔层，所述底部阻隔层上设有针刺状刺破孔，所述底部阻隔层下设有分别平行于坡底的和垂直于坡底的横向基质沟与纵向基质沟，所述横向基质沟与纵向基质沟底部设有固定带，所述横向基质沟与纵向基质沟内铺设有种植基质层，所述播种基质层中填充有边坡植物种子，所述底部阻隔层由20g/㎡的无纺布制成，所述底部阻隔层底部上间隔设有遮片。本发明通过在边坡植生毯底部的无纺布上设置方格形基质模块，吸收和释放水分，为种植在周围的植物提供生长所需的环境，从而提高植物的成活率，同时提高边坡植物的稳定性，减少雨水及灌溉水的冲刷影响。

技术领域

本发明涉及市政工程建设领域，特别是涉及一种利于边坡植物生长的植生毯结构，尤其涉及一种利于边坡水土保持、提高边坡植物成活率、丰富植物景观功能的植生毯结构。

背景技术

我国在城市边坡防护治理过程中，对边坡的各项功能要求越来越高。目前，虽然边坡的水土保持功能、景观功能具有很大提高，但是在边坡绿化的常规种植模式中仍然存在生态功能与防护功能不能兼顾的问题。目前边坡绿化，为了减少雨水对边坡土体的冲刷，多采用碎石拼装、预制混凝土块等硬质材料铺设，这种形式的虽然防护性能高，但是没有生态功能。

有的采用植草砖、方格等方式铺设边坡，这种形式软质景观占有一定比例，但是植物景观模式单一，生态功能性较低。采用灌木-草本植被覆盖边坡的绿化形式，生态功能性较高，但是形成稳定的护坡群落时间较长，尤其是在前期施工及植物幼苗较小期间、根系浅，水土保持能力弱，雨季水土流失较为严重，增加雨水的污染程度，同时水土流失降低植物的生活率，影响边坡的景观性。

发明内容

本发明的目的是提出一种可以提高边坡植物成活率，形成稳定群落，提高边坡土体的抗剪能力和稳定性，减少边坡雨水含泥量，提高边坡抗冲刷及景观效果的植生毯结构。

为实现上述目的，本发明提供了一种利于边坡植物生长的植生毯结构，所述植生毯结构包括覆盖层、设置在所述覆盖层下侧的播种基质层、设置在所述播种基质层下侧的根系固定层、设置在所述根系固定层下侧的底部阻隔层，所述底部阻隔层上设有针刺状刺破孔，所述底部阻隔层下设有分别平行于坡底的和垂直于坡底的横向基质沟与纵向基质沟，所述横向基质沟与纵向基质沟底部设有固定带，所述横向基质沟与纵向基质沟内铺设有种植基质层，所述播种基质层中填充有边坡植物种子，所述底部阻隔层由20g/㎡的无纺布制成，所述底部阻隔层底部上间隔设有遮片。

优选地，所述覆盖层由10g/㎡的无纺布制成，所述无纺布上设有间隔布置的间距为3cm、行距为5cm的生长缝。

优选地，所述播种基质层由园土与草炭土按照体积比1:1混合而成，所述播种基质层的厚度2cm。

优选地，所述根系固定层分为上层编织层与下层编织层，上层编织层与下层编织层的间距2cm，上层编织层与下层编织层之间填充园土，上层编织层的方格间距为4cm，下层编织层的方格间距为2cm。

优选地，所述横向基质沟之间的间距为100cm，所述纵向基质沟之间的间距为300cm。

优选地，所述种植基质层由草炭土、园土、蛭石及保水剂四种材料混合铺设而成，所述蛭石的粒径为1～3mm。

优选地，所述种植基质层的制备步骤包括：将草炭土、园土、蛭石三种材料按照体积比3:3:2混合均匀，并在混匀后按照质量比加入5‰的保水剂，混合均匀后铺设。

优选地，所述固定带由200g/㎡的土工布制成，宽度为2cm、厚度为0.2cm；所述固定带之间的纵向间距为375cm、横向间距为165cm。

基于上述技术方案，本发明的优点是：