[发明专利]一种具有光学特性和整流效应的复合多层薄膜材料及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201811162642.6 | 申请日： | 2018-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN109023284B | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 张雅丽;谢致薇;杨元政;陶平均;许佳雄;何玉定 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张春水;唐京桥 |
| 地址： | 510006 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 光学 特性 整流 效应 复合 多层 薄膜 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种具有光学特性和整流效应的复合多层薄膜材料，其特征在于，包括交替设置的CuCrO2薄膜和CuO薄膜；
交替设置的一层所述CuCrO2薄膜和一层所述CuO薄膜为一周期，所述交替设置的周期为6～14；
所述CuCrO2薄膜和所述CuO薄膜的厚度比为1：2。
2.根据权利要求1所述的复合多层薄膜材料，其特征在于，每层所述CuCrO2薄膜的厚度为4.8nm～22.2nm；
每层所述CuO薄膜的厚度为4.8nm～22.2nm。
3.根据权利要求2所述的复合多层薄膜材料，其特征在于，所述交替设置的周期为6或10。
4.一种具有光学特性和整流效应的复合多层薄膜材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
采用磁控溅射法在衬底的表面交替沉积CuCrO2薄膜和CuO薄膜，得到具有光学特性和整流效应的复合多层薄膜材料；
其中，交替沉积在所述衬底表面的一层所述CuCrO2薄膜和一层所述CuO薄膜为一周期，所述交替沉积的周期为6～14；
所述CuCrO2薄膜和所述CuO薄膜的厚度比为1：2。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述衬底为导电玻璃或石英玻璃。
6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述衬底与所述CuCrO2薄膜接触设置。
7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在沉积所述CuCrO2薄膜时，所述磁控溅射法的溅射气体为氩气和氧气，所述氩气和所述氧气的纯度高于99.99％，所述氩气的流量为30sccm～50sccm，所述氧气的流量为5sccm～15sccm；
所述磁控溅射法的溅射室的真空度为3.0x10-4Pa～7.0x 10-4Pa；
所述磁控溅射法的工作气压为1Pa～8Pa，所述衬底的温度为20℃～200℃；
所述磁控溅射法的溅射功率为60W～150W；
所述磁控溅射法的沉积时间为2min～20min。
8.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在沉积所述CuO薄膜时，所述磁控溅射法的溅射气体为氩气和氧气，所述氩气和所述氧气的纯度高于99.99％，所述氩气的流量为15sccm～35sccm，所述氧气的流量为6sccm～18sccm；
所述磁控溅射法的溅射室的真空度为3.1x10-4Pa～7.3x 10-4Pa；
所述磁控溅射法的工作气压为0.5Pa～6Pa，所述衬底的温度为20℃～200℃；
所述磁控溅射法的溅射功率为30W～100W；
所述磁控溅射法的沉积时间为1min～10min。
9.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述磁控溅射法的溅射靶材为CuCrO2靶和Cu靶。
10.权利要求1至3任意一项所述具有光学特性和整流效应的复合多层薄膜材料和权利要求4至9任意一项所述制备方法制得的具有光学特性和整流效应的复合多层薄膜材料作为光催化材料的应用。
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