[发明专利]原子层沉积装置

权利要求书

1.一种原子层沉积装置，其特征在于，包括安装台、双层加热腔室和气体过滤装置，所述安装台上滑动设置有双层门体组件，所述双层门体组件和所述双层腔室配合，所述气体过滤装置连通所述双层加热腔室，

所述双层门体组件包括第一门板和第二门板，所述第一门板包括内侧面和外侧面，所述第二门板位于所述内侧面一侧且和所述第一门板间隔形成安装空间，所述第二门板在所述内侧面所在平面上的正投影位于所述内侧面上，位于所述安装空间内的所述内侧面上设置有加热板，连接杆活动穿设所述第一门板连接所述第二门板，所述外侧面上设置有导杆，调节板滑动设置在所述导杆上，所述连接杆连接所述调节板，所述调节板和所述外侧面之间设置有驱动气缸，所述驱动气缸连接所述调节板；

所述双层加热腔室包括第一腔体和第二腔体，所述第一腔体内至少固定容置有1个所述第二腔体，所述第一腔体和所述第二腔体的内壁间隔设置，所述第一腔体内铺设有加热管，所述加热管包围所述第二腔体部分。

2.根据权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述第一门板和所述调节板之间的所述连接杆上套设有波纹管，所述波纹管和所述第一门板、所述调节板固定连接，所述波纹管可伸缩。

3.根据权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述导杆末端设置有限位块，所述导杆上设置有限位板，所述限位板和所述限位块之间设置有弹簧垫圈。

4.根据权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述第一腔体和所述第二腔体在同一方向上开设有进出口。

5.根据权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述第一腔体形成2个子腔体，所述子腔体互不连通，每个所述子腔体内容置有2个所述第二腔体，所述第二腔体相互间隔。

6.根据权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述第一腔体内的底部设置有架板，所述加热管铺设在所述架板上，所述第二腔体底部设置有支撑脚，所述支撑脚固定连接所述架板，所述第二腔体和所述架板间隔。

7.根据权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述加热管呈多组阵列设置，每组加热管呈连续U型。

8.根据权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述气体过滤装置包括炉体，所述炉体的下端外表面固定安装有底板，且底板的下端活动安装有滚轮，所述炉体的后端外表面固定安装有进气管，且炉体的一侧外表面固定安装有进水管，所述炉体的内部靠近下端的位置固定安装有滤网，且炉体的内部靠近上端的位置固定安装有托盘，所述炉体的上端外表面固定安装有顶板，且顶板的上端外表面固定安装有出气管，所述炉体的另一侧设置有过滤桶，且过滤桶与炉体之间设置有阀门，所述炉体的外表面的中间位置固定安装有固定块。

9.根据权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述滤网的下端固定安装有加热丝，且加热丝的外表面固定安装有连接块。