[发明专利]用于自适应地控制有源相控阵天线的方法和装置

权利要求书

1.一种自适应地控制包括多个辐射元件的有源相控阵天线的方法，该方法包括以下步骤：

确定所述有源相控阵天线的至少一部分的热分布；

将所确定的热分布与参考热分布进行比较；以及

至少部分地基于所确定的热分布与所述参考热分布之间的比较，根据稀疏图案仅停用所述多个辐射元件的子集，

其中，所述稀疏图案在整个所述有源相控阵天线中是均匀的。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所确定的热分布包括所述有源相控阵天线的所述至少一部分的热密度和所述有源相控阵天线的所述至少一部分的最高温度中的至少一个，其中，所述最高温度与最热辐射元件相关联。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述稀疏图案依据波束宽度约束和峰值旁瓣约束使轴上等效各向同性辐射功率EIRP最大化，其中，轴上是相对于与所述多个辐射元件的平面垂直的轴而言的。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述稀疏图案依据轴外等效各向同性辐射功率EIRP谱密度约束使轴上等效各向同性辐射功率EIRP谱密度最大化，其中，轴外是相对于与所述多个辐射元件的平面垂直的轴而言的。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，至少部分地基于所确定的热分布与所述参考热分布之间的比较而根据稀疏图案停用所述多个辐射元件的子集的步骤包括：

至少部分地根据所确定的热分布与所述参考热分布之间的差异来生成期望的热分布减小；以及

根据所述期望的热分布减小、所述轴上EIRP谱密度和所述轴外EIRP谱密度约束来确定稀疏图案，其中，所述轴外EIRP谱密度约束包括限定最大旁瓣能量的旁瓣屏蔽。

6.根据权利要求4所述的方法，其中：

所述参考热分布是最大热分布。

7.根据权利要求4所述的方法，其中：

所述参考热分布是小于最大热分布的触发热分布。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，确定所述有源相控阵天线的热分布的步骤包括测量所述有源相控阵天线的温度。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，确定所述有源相控阵天线的热分布的步骤包括估计所述有源相控阵天线的温度，根据以下中的一个或更多个估计所述温度：

以通信的方式连接以向所述有源相控阵天线的辐射元件提供输入信号的发射器的功耗；

对所述发射器的要求功率；

所述有源相控阵天线附近的环境温度；以及

所述有源相控阵天线的空速。

10.根据权利要求1所述的方法，其中：

所述稀疏图案是多个预先计算的稀疏图案之一；以及

所述稀疏图案被选择为预先计算的稀疏图案之一。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，实时地计算所述稀疏图案。

12.一种用于自适应地控制包括多个辐射元件的有源相控阵天线的装置，该装置包括：

热分布确定模块，其用于确定所述有源相控阵天线的至少一部分的热分布；

比较模块，其用于将所确定的热分布与参考热分布进行比较；以及

稀疏图案确定模块，其用于至少部分地基于所确定的热分布与所述参考热分布之间的比较，根据稀疏图案仅停用所述多个辐射元件的子集，其中，所述稀疏图案在整个所述有源相控阵天线中是均匀的。

13.根据权利要求12所述的装置，其中，所确定的热分布包括所述有源相控阵天线的所述至少一部分的热密度和所述有源相控阵天线的最高温度中的至少一个。