[发明专利]一种离线低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途

说明书

本发明提供了一种离线低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途，所述离线低辐射镀膜玻璃包括基底层，还包括设置于基底层表面的低辐射层，所述低辐射层包括从下至上依次设置在基底层上的第一介质层、透明氧化物导电层和第二介质层。所述离线低辐射镀膜玻璃在不含有Ag、Cu或Au等导电性金属膜层的情况下，使玻璃在经过钢化热处理后具有低辐射性能，同时，实现可单片使用性能，该玻璃可用于室内装潢及室外幕墙等大面积使用，并可配合中空及夹层等产品使用，从而达到安全、节能效果的同时还兼具美观的效果。

技术领域

本发明属于玻璃技术领域，涉及一种离线低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途。

背景技术

目前，对于离线低辐射(low-e)镀膜玻璃来讲，一般其功能层都是采用Ag等高导电性金属作为红外反射层，进而实现低辐射性能，但采用金属作为低辐射功能层的low-e镀膜玻璃，膜层极易氧化，且容易划伤，无法实现单片使用性能，必须配合中空玻璃使用，大大限制了其产品的应用范围。

而对于在线low-e镀膜玻璃产品，如CN103562152A公开的在线镀膜玻璃产品，其采用的膜层结构为：用于中和反射颜色的第一层；具有低辐射率的第二层，其基本上由SnO₂:F构成，厚度为455～800nm；和基本上由SiOx构成的第三层，其中x小于或等于2，该层的厚度为140～180nm。虽然可实现单片使用性能，但其辐射率比离线low-e辐射率高，产品种类较为单一，颜色均匀性、光学性能及热工性能较差，无法根据客户及市场需求做出灵活调节，难以满足市场需求。

因此，提供一种可单片使用的离线低辐射镀膜玻璃具有重要的研究意义。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种离线低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途，所述离线低辐射镀膜玻璃在不含有Ag、Cu或Au等导电性金属膜层的情况下，使玻璃在经过钢化热处理后具有低辐射性能，同时，实现可单片使用性能，该玻璃可用于室内装潢及室外幕墙等大面积使用，并可配合中空及夹层等产品使用，从而达到安全、节能效果的同时还兼具美观的效果。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

本发明的目的之一在于提供一种离线低辐射镀膜玻璃，包括基底层，还包括设置于基底层表面的低辐射层，所述低辐射层包括从下至上依次设置在基底层上的第一介质层、透明氧化物导电层和第二介质层。

所述离线低辐射镀膜玻璃在不含有Ag、Cu或Au等导电性金属膜层的情况下具有低辐射性能，同时能够实现单片使用，该玻璃可用于室内装潢及室外幕墙等大面积使用，并可配合中空及夹层等产品使用，从而达到安全、节能效果的同时还兼具美观的效果。

所述透明氧化物导电层与第二介质层之间还设置吸收层，所述吸收层能够更好地调节所述低辐射镀膜玻璃的性能参数，使得其更好地满足不同的性能要求。

优选地，所述吸收层不含有Cu、Ag或Au中的任意一种或至少两种的组合，典型但非限制性的组合如Cu与Ag，Cu与Au，Cu、Ag与Au。所述低辐射层中不含有具有红外反射功能的Ag、Cu或Au等金属，可以实现单片使用。

优选地，所述吸收层包括Ni层、Cr层、Ti层、Nb层、Zr层、Mo层、NiCr层、NiCrMo层、TiNb层、TiNi层、NbZr层或ZrTi层中的任意一种或至少两种的组合，典型但非限制性的组合如Ni层与Cr层，Ti层、Nb层与Zr层，Mo层、NiCr层与NiCrMo层，TiNb层、TiNi层、NbZr层与ZrTi层，优选为NiCr层、NiCrMo层或NbZr层中的一种或至少两种的组合。

优选地，所述吸收层的厚度为0～20nm，如2nm、5nm、8nm、10nm、12nm、15nm或18nm等，并且不包括0。