[发明专利]一种基于ReBCO超导D形环片的传导冷却环向磁体

权利要求书

1.一种基于ReBCO超导D形环片的传导冷却环向磁体，其特征在于，由多个相同的单元环向场磁体沿环向均匀分布、组合构成，所述单元环向场磁体由N片ReBCO超导D形环片、N+1片冷却片交替堆叠、固定得到，其中N为正整数；

所述冷却片包括冷却部分和矩形连接头，冷却部分上下表面均涂覆绝缘层或均放置绝缘片，冷却部分尺寸、形状均与ReBCO超导D形环片相同，且沿径向切割有能避免产生涡流的切口；矩形连接头用于连接制冷机；

所述ReBCO超导D形环片的D形内环1个拐角或2个拐角处切割圆形定位孔；

将螺管线圈环向螺绕插入所述传导冷却环向磁体的1个或2个圆形定位孔中，穿过整个的环向磁体，利用脉冲电源提供交变电流，通过周期性励磁使超导磁体磁场不断增大至期望值，然后无需撤去螺管线圈，关闭脉冲电源，使得环向磁体的电流保持恒定，维持稳定的磁场。

2.根据权利要求1所述的传导冷却环向磁体，其特征在于，所述D形内环2个拐角切割圆形定位孔的D形环片轴对称。

3.根据权利要求1所述的传导冷却环向磁体，其特征在于，所述冷却片冷却部分的切口位置为内环至冷却片边缘连接处。

4.根据权利要求1所述的传导冷却环向磁体，其特征在于，所述ReBCO超导D形环片由自下至上依次排列的衬底、缓冲层、ReBCO薄膜和保护层组成；

所述衬底材料为Ni、NiW、哈氏合金或不锈钢；

所述缓冲层为绝缘性金属氧化物；

所述保护层为银薄膜保护层或铜薄膜保护层；

所述缓冲层利用离子束辅助沉积技术或倾斜基底沉积技术沉积，所述ReBCO薄膜利用金属有机化学气相沉积、脉冲激光沉积法或溅射法沉积。

5.根据权利要求1所述的传导冷却环向磁体，其特征在于，所述N片ReBCO超导D形环片的堆叠方向一致。

6.根据权利要求1所述的传导冷却环向磁体，其特征在于，所述冷却片为裸铜或裸铜合金片。

7.根据权利要求1所述的传导冷却环向磁体，其特征在于，所述冷却片冷却部分上下放置的绝缘片形状、尺寸与ReBCO超导D形环片相同，为有机绝缘片、牛皮纸或环氧薄片；

所述冷却片冷却部分上下表面涂覆的绝缘层材料与所述绝缘片材料相同。

8.根据权利要求1所述的传导冷却环向磁体，其特征在于，所述N+1片冷却片堆叠角度均相同、连接头均设置定位连接孔，采用软连接将连接头与制冷机连接。