[发明专利]曝光方法、曝光装置和器件制造方法

权利要求书

1.一种曝光方法，使用经过了多个光学元件的曝光用光曝光物体，其特征在于，包括：

将所述多个光学元件中的、第1区域内的光学元件设定为第1状态并射出第1相位的曝光用光；

将所述多个光学元件中的、第2区域内的光学元件设定为与所述第1状态不同的第2状态，并射出与所述第1相位不同的第2相位的曝光用光，其中，所述第2区域位于所述第1区域的第1方向侧，并且所述第1区域和所述第2区域在与所述第1方向交叉的第2方向上并列地延伸；以及

将所述第1区域与所述第2区域之间的第3区域内的多个光学元件中的、沿所述第2方向以不被投影光学系统析像的间距排列的多个第1部分设定为所述第1状态并射出所述第1相位的曝光用光，而且将位于所述第1部分的所述第2方向侧的光学元件的第2部分设定为所述第2状态并射出所述第2相位的曝光用光。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，

所述第2部分位于多个所述第1部分之间。

3.根据权利要求2所述的曝光方法，其特征在于，包括：

将所述多个光学元件中的、第4区域内的光学元件设定为所述第2状态并射出所述第2相位的曝光用光，其中，所述第4区域位于所述第1区域的第3方向侧，所述第3方向是与所述第1方向相反侧的方向；和

将所述第1区域与所述第3区域之间的第5区域内的多个光学元件中的、沿所述第2方向存在的多个第3部分设定为所述第1状态并射出所述第1相位的曝光用光，并且将光学元件的位于所述第3部分的所述第2方向侧的第4部分设定为所述第2状态并射出所述第2相位的曝光用光。

4.一种曝光方法，使用经过了多个光学元件的曝光用光曝光物体，其特征在于，包括：

将所述多个光学元件中的、第1区域内的光学元件设定为第1状态并射出第1相位的曝光用光；

将所述多个光学元件中的、第2区域内的光学元件设定为与所述第1状态不同的第2状态，并射出与所述第1相位不同的第2相位的曝光用光，其中，所述第2区域位于所述第1区域的第1方向侧，并且所述第1区域和所述第2区域在与所述第1方向交叉的第2方向上并列地延伸；

将所述第1区域与所述第2区域之间的第3区域内的多个光学元件中的、沿所述第2方向以不被投影光学系统析像的间距排列的第1部分设定为所述第1状态并射出所述第1相位的曝光用光，而且将光学元件的位于所述第1部分的所述第2方向侧的第2部分设定为所述第2状态并射出所述第2相位的曝光用光；以及

将经由了所述投影光学系统的来自所述多个光学元件的曝光用光照射到所述物体。

5.根据权利要求4所述的曝光方法，其特征在于，包括：

将所述多个光学元件中的、第4区域内的光学元件设定为所述第2状态并射出所述第2相位的曝光用光，其中，所述第4区域位于所述第1区域的第3方向侧，所述第3方向是与所述第1方向相反侧的方向；和

将所述第1区域与所述第3区域之间的第5区域内的多个光学元件中的、沿所述第2方向存在的多个第3部分设定为所述第1状态并射出所述第1相位的曝光用光，并且将光学元件的位于所述第3部分的所述第2方向侧的第4部分设定为所述第2状态并射出所述第2相位的曝光用光。

6.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，

还包括将经由了所述投影光学系统的来自所述多个光学元件的曝光用光照射到所述物体。

7.根据权利要求4或6所述的曝光方法，其特征在于，

所述第2部分的光学元件沿着所述第2方向存在多个，

在将所述曝光用光的波长设为λ、将所述投影光学系统的物体侧开口数设为NA时，多个所述第1部分或多个所述第2部分的间距小于λ/(NA·β)。

8.根据权利要求4或6所述的曝光方法，其特征在于，

曝光出在与所述第1方向对应的方向具有周期性的线和空间图案。