[发明专利]一种多功能的净化曝光装置

说明书

本发明公开了一种多功能的净化曝光装置，包括主支撑衬座，主支撑杆，辅支撑衬座，辅支撑杆，净化曝光台，选择开关，L型卡座，导料斗，滤杂不锈钢网，净化曝光箱，置放门，曝光处理机，废气引出处理排放机，消毒净化处理机和废杂可收集清理桶。本发明废气引出电机，废气处理导出罩，风叶，排出气体滤网，引出管，废气处理芯和滤杂网的设置，有利于起到良好的废气引出作用，并可通过废气处理芯和滤杂网进行深度过滤，以保证废气处理更加干净，以免排放污染环境；主安装座，支撑座，辅安装座，灯座，消毒灯管和灯罩的设置，有利于对微电子待处理件进行杀毒工作，以保证微电子器件的曝光净化处理工作顺利进行。

技术领域

本发明属于微电子工艺设备技术领域，尤其涉及一种多功能的净化曝光装置。

背景技术

光刻(photoetching)是通过一系列生产步骤，将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺。在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。通过光刻工艺过程，最终在晶圆上保留的是特征图形部分。光刻过程主要包括涂覆光刻胶、烘干、曝光、显影、刻蚀等。这些工艺都需要在无尘室中进行。曝光和显影步骤中会有挥发性物质产生，可能对操作人员造成危害。

在工业生产、科学研究中，很多地方需要用到无尘工作的环境。净化工作台可以为这些目的提供有效的工作环境，提高生产和科研效率。于是发明人设想，如果能将微电子工业中的曝光和显影部分放置于净化工作台内，那将杜绝化学曝光、显影过程中挥发气体对人体的危害，此外，借助净化工作台，曝光和显影则可以在普通环境中进行操作，而不需要专门的无尘室，这大大降低了科研、教学的硬件门槛。

中国专利公开号为CN105988296B，发明创造名称为净化曝光装置，包括净化工作台内的曝光光源、光刻胶显影液槽、漂洗液槽，所述的净化工作台包括工作腔体、进气系统、排气系统。但是现有的净化曝光装置还存在着微电子处理加工时无法进行辅助消毒净化处理，不方便收集台面的废屑和缺少废气处理功能的问题。

因此，发明一种多功能的净化曝光装置显得非常必要。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种多功能的净化曝光装置，以解决现有的净化曝光装置存在着微电子处理加工时无法进行辅助消毒净化处理，不方便收集台面的废屑和缺少废气处理功能的问题。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：一种多功能的净化曝光装置，包括主支撑衬座，主支撑杆，辅支撑衬座，辅支撑杆，净化曝光台，选择开关，L型卡座，导料斗，滤杂不锈钢网，净化曝光箱，置放门，曝光处理机，废气引出处理排放机，消毒净化处理机和废杂可收集清理桶，所述的主支撑衬座横向螺栓安装在主支撑杆的下端；所述的辅支撑衬座横向螺栓安装在辅支撑杆的下端；所述的主支撑杆分别纵向上端螺栓安装在净化曝光台的下部左侧前后两端；所述的辅支撑杆分别纵向上端螺栓安装在净化曝光台的下部右侧前后两端；所述的选择开关纵向螺钉连接在左侧前部设置的主支撑杆的左上侧；所述的L型卡座分别螺栓安装在净化曝光台的下部左右两侧中间位置；所述的导料斗镶嵌在净化曝光台内部下侧中间位置；所述的滤杂不锈钢网镶嵌在净化曝光台的内部上侧中间位置；所述的净化曝光箱纵向下端螺栓安装在净化曝光台的上表面中间位置；所述的置放门纵向合页连接在净化曝光箱的右侧中间位置进口处；所述的曝光处理机纵向螺栓安装在净化曝光箱的内部左壁中间位置；所述的废气引出处理排放机纵向安装在净化曝光箱的内部顶端中间位置；所述的消毒净化处理机安装在净化曝光箱的内部上侧中间位置；所述的废杂可收集清理桶纵向安装在导料斗的下端；所述的废气引出处理排放机包括废气引出电机，废气处理导出罩，风叶，排出气体滤网，引出管，废气处理芯和滤杂网，所述的废气引出电机的输出轴贯穿废气处理导出罩的内部上侧中间位置并键连接风叶的内部中间位置；所述的排出气体滤网分别镶嵌在废气处理导出罩的内部左右两侧中间位置；所述的引出管纵向上端螺纹连接在废气处理导出罩的下端；所述的废气处理芯横向螺钉连接在废气处理导出罩的内部上侧中间位置；所述的滤杂网螺钉连接在废气处理导出罩的内部下端。