[发明专利]用于物理气相沉积(PVD)处理系统的靶材冷却

权利要求书

1.一种靶材组件，所述靶材组件用于使用在物理气相沉积基板处理腔室中，所述靶材组件包括：

源材料；

第一背板，所述第一背板被配置成将所述源材料支撑在所述第一背板的正面上；

第二背板，所述第二背板耦接至所述第一背板的背面且具有设置在所述第二背板的背面上的多个入口；

独立的至少三组通道，所述独立的至少三组通道设置在所述第一背板与所述第二背板之间，其中每组通道包括至少三个通道，其中每组通道中的所述至少三个通道实质上彼此平行，其中所述独立的至少三组通道的每组通道以递归方式横过所述第一背板和所述第二背板的实质上整个长度至少三次，其中所述独立的至少三组通道中的所述至少三个通道的每个通道流体地耦接至所述多个入口的一个入口，并且其中每个入口流体地耦接至多个供给导管的一个供给导管；

中央支撑构件，所述中央支撑构件支撑所述基板处理腔室内的所述靶材组件，其中所述中央支撑构件耦接至所述第一背板和所述第二背板的中央部分，且所述中央支撑构件从所述第二背板的所述背面垂直地延伸离开，并且其中所述独立的至少三组通道被配置为使冷却剂在所述中央支撑构件周围流动；及

多个出口，所述多个出口被设置成穿过所述第二背板，且所述多个出口通过所述独立的至少三组通道而流体地耦接至所述多个入口，其中所述多个出口中的每两个出口都被至少一组通道隔开，其中所述多个入口的每两个入口都被至少一组通道隔开，并且其中所述独立的至少三组通道中的每组通道的入口和出口不同于所述独立的至少三组通道中的其他组通道的入口和出口。

2.如权利要求1所述的靶材组件，其中所述第二背板包括：

所述多个入口，所述多个入口被设置成穿过所述第二背板，且所述多个入口被配置成接收热交换流体并且将所述热交换流体提供至所述独立的至少三组通道。

3.如权利要求1所述的靶材组件，其中所述多个入口被设置成穿过所述第二背板，且所述多个入口被配置成接收热交换流体并且将所述热交换流体提供至所述独立的至少三组通道，并且其中所述第二背板进一步包括设置在所述第二背板的所述背面上的多个出口，其中所述独立的至少三组通道中的每一组通道被耦接至所述多个入口中的相应的一个入口以及所述多个出口中的相应的一个出口，使得所述多个出口中的每一个出口通过所述独立的至少三组通道中的一组通道而流体地耦接至所述多个入口中的一个入口。

4.如权利要求1所述的靶材组件，其中所述独立的至少三组通道中的每一通道完全形成于所述第一背板中，且其中所述第二背板被配置成覆盖每一通道。

5.如权利要求1所述的靶材组件，其中所述独立的至少三组通道中的每一通道由所述第一背板中的槽与所述第二背板中的相应槽形成。

6.如权利要求1所述的靶材组件，其中所述第一背板与所述第二背板被铜焊在一起，以在所述第一背板与所述第二背板之间形成流体密封。

7.如权利要求1所述的靶材组件，其中所述第一背板包括导电的能加工的金属或金属合金，且其中每一通道是所述第一背板中的加工的槽。

8.如权利要求1所述的靶材组件，其中所述第二背板包括导电金属或金属合金，所述第二背板的所述导电金属或金属合金具有大于所述第一背板的所述金属或金属合金的弹性模量。

9.如权利要求1所述的靶材组件，其中所述独立的至少三组通道的每一通道具有实质上矩形横截面。

10.如权利要求1所述的靶材组件，其中所述第一背板和所述第二背板是圆盘状。