[发明专利]一种基于方华层增强石墨烯与柔性基底界面的方法在审
申请号: | 201811139154.3 | 申请日: | 2018-09-28 |
公开(公告)号: | CN110963486A | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 王韫璐;赵沛;王宏涛 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C01B32/194 | 分类号: | C01B32/194 |
代理公司: | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人: | 徐关寿 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 方华层 增强 石墨 柔性 基底 界面 方法 | ||
一种基于方华层增强石墨烯与柔性基底界面的方法,使用方华粉与三氯甲烷混合得到方华溶液,方华粉与三氯甲烷的质量百分比为1:50~1:100;方华粉指的是聚乙烯醇缩甲醛粉末;获取生长有石墨烯薄膜的铜箔,将石墨烯薄膜浸入方华溶液,静置,将铜箔取出晾干;石墨烯与方华溶液接触后、石墨烯表面形成一层方华膜;将目标柔性基底与方华膜贴合;用FeCl3溶液将铜箔溶解,FeCl3溶液的浓度为1mol/L;用去离子水清洗残留在柔性基底上的FeCl3溶液2~3次,晾干。本发明能够将石墨烯完整的转移到柔性基底上,并能增强石墨烯与柔性基底的界面强度。
技术领域
本发明具体涉及一种基于方华层增强石墨烯与柔性基底界面的方法。
背景技术
石墨烯是一种新型的二维薄膜碳材料,具有超越诸多材料的优异性质,石墨烯在柔性器件上的应用发展迅速。石墨烯应用在柔性器件上,需要将石墨烯转移至对应的柔性基底上,并且要求石墨烯和柔性基底之间具有良好的界面强度。
传统的石墨烯转移方法中,主要目标基底为聚二甲基硅氧烷(PDMS),其具体转移过程为:1.将PDMS旋涂在长有石墨烯的铜箔表面,形成一层厚度合适的PDMS层。2.加热固化PDMS。3.将铜箔片朝下放置在FeCl3溶液液面上,对铜基底进行刻蚀,使石墨烯与铜基底分离。4.刻蚀完成后,将PDMS/石墨烯从溶液中取出、用去离子水中反复清洗。5.将PDMS/石墨烯垂直放置并晾干。
传统的石墨烯转移方法主要存在如下问题:1.固化PDMS的过程容易造成石墨烯破碎,严重降低石墨烯的完整性。2. PDMS与石墨烯之间的界面作用弱,容易造成石墨烯从PDMS表面剥离。PDMS和石墨烯的各种力学性能(如杨氏模量、泊松比等)差异较大,界面突变导致PDMS和石墨烯之间的应力传递十分不理想,石墨烯容易从PDMS表面剥离。3. 除了PDMS之外,能够与石墨烯薄膜结合、并保证界面结合力的基底材料种类十分有限,使得石墨烯柔性器件只能在较小应变范围内应用。
发明内容
本发明的目的在于提供一种增强石墨烯与柔性基底界面的方法,解决传统的石墨烯转移方法中石墨烯完整性难以保证、石墨烯与基底材料之间界面结合力差以及基底材料种类受限的问题。
一种基于方华层增强石墨烯与柔性基底界面的方法,包括步骤:
1)使用方华粉与三氯甲烷混合得到方华溶液,方华粉与三氯甲烷的质量百分比为1:50~1:100;方华粉指的是聚乙烯醇缩甲醛粉末;
2)获取生长有石墨烯薄膜的铜箔,将石墨烯薄膜浸入方华溶液,静置3~7s,将铜箔取出晾干;石墨烯与方华溶液接触后、石墨烯表面形成一层方华膜;
3)将目标柔性基底与方华膜贴合;
4)用FeCl3溶液将铜箔溶解,FeCl3溶液的浓度为1mol/L。
5)用去离子水清洗残留在柔性基底上的FeCl3溶液2~3次,晾干。
方华膜的力学性能(如杨氏模量、泊松比等)介于目标柔性基底与石墨烯之间。方华膜位于石墨烯与柔性基底之间,减小了石墨烯与柔性基底之间界面力学性能的突变,能够有效增强石墨烯和柔性基底之间的界面强度。
优选的,步骤1)中,方华粉与三氯甲烷的质量百分比为1:100。
优选的,步骤2)中,石墨烯垂直浸入方华溶液,并且从方华溶液中垂直取出。这样可以使方华溶液均匀涂覆在石墨烯表面,晾干后在石墨烯薄膜表面生成一层厚度均匀的方华膜,厚度均一的方华膜使石墨烯薄膜和柔性基底更好地结合。
优选的,步骤2)的静置时间为5s。
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