[发明专利]一种12吋晶圆用平整固定装置有效
| 申请号: | 201811137377.6 | 申请日: | 2018-09-28 |
| 公开(公告)号: | CN109273399B | 公开(公告)日: | 2023-02-10 |
| 发明(设计)人: | 刘劲松;于大泳;时威;谢旭波;付忠良 | 申请(专利权)人: | 上海微松工业自动化有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L21/687;H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 林君如 |
| 地址: | 201112 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 12 吋晶圆用 平整 固定 装置 | ||
1.一种12吋晶圆用平整固定装置,用于封装设备中12吋翘曲晶圆的平整固定,其特征在于,包括:
承载台,安装在所述封装设备中;
吸附固定部,安装在所述承载台上,用于吸附固定所述12吋翘曲晶圆,具有可相对于所述承载台上下移动的预固定单元和装载固定单元以及用于为所述预固定单元和所述装载固定单元分别提供真空负压的负压单元;
压边固定部,安装在所述封装设备中,位于所述吸附固定部的正上方,用于对吸附固定在所述吸附固定部上的所述12吋翘曲晶圆的边缘区域进行平整固定;以及
检测部,用于检测所述12吋翘曲晶圆的平整度,包括安装在所述吸附固定部上的负压检测单元和安装在所述压边固定部上的平整度检测单元,
其中,所述压边固定部具有:
支架,固定在所述封装设备上;
压边单元,安装在所述支架上,可相对于所述吸附固定部上下移动,用于压平所述边缘区域,具有压盘和安装在所述压盘上的多个压边头;
喷气单元,安装在所述压边单元上,可相对于所述吸附固定部上下移动,用于喷射垂直向下的气流;以及
压边电机,固定在所述支架上,用于驱动所述压边单元和所述喷气单元移动,
所述12吋翘曲晶圆预固定并装载至所述装载固定单元上,所述喷气单元向所述12吋翘曲晶圆喷射气体,同时所述压边单元向下运动将预固定后的所述12吋翘曲晶圆的所述边缘区域压平,所述装载固定单元对压平后的所述12吋翘曲晶圆进行吸附固定。
2.根据权利要求1所述的12吋晶圆用平整固定装置,其特征在于:
其中,压盘具有圆形的中心件和八根条状件,
八根所述条状件呈中心放射状均匀排布,
所述条状件的一端固定在所述中心件上,
所述中心件的圆心到八根所述条状件最远端的距离均为220mm。
3.根据权利要求2所述的12吋晶圆用平整固定装置,其特征在于:
其中,所述压边头安装在所述条状件上,位于所述条状件的另一端,
每根所述条状件上安装有一个所述压边头,
每两个所述压边头相互对称设置在所述中心件的一条直径的延伸线上。
4.根据权利要求2所述的12吋晶圆用平整固定装置,其特征在于:
其中,多个所述压边头呈圆心与所述中心件的圆心重合的圆环形排布,
所述中心件的圆心到八个所述压边头的距离均为95mm。
5.根据权利要求1所述的12吋晶圆用平整固定装置,其特征在于:
其中,所述装载固定单元,安装在所述承载台上,用于装载固定所述12吋翘曲晶圆,具有底盘以及设置在所述底盘上的多个吸附孔和多个底盘通孔,该底盘通孔位于所述底盘的中央区域,用于供所述预固定单元通过。
6.根据权利要求5所述的12吋晶圆用平整固定装置,其特征在于:
其中,所述底盘呈圆形,
多个所述吸附孔排列成七圈圆环状吸附孔圈,七圈所述吸附孔圈的圆心与所述底盘的圆心重叠,并沿所述底盘的直径方向由内向外排布,
七圈所述吸附孔圈的直径分别为:40mm、80mm、110mm、140mm、180mm、226mm以及276mm。
7.根据权利要求5所述的12吋晶圆用平整固定装置,其特征在于:
其中,所述预固定单元安装在所述承载台上,包括三根吸附固定杆,
三根所述吸附固定杆呈正三角形排布,每根吸附固定杆穿过一个所述底盘通孔。
8.根据权利要求6所述的12吋晶圆用平整固定装置,其特征在于:
其中,所述负压单元包括:
底盘负压组件,安装在所述底盘下方,与多个所述吸附孔连通;
预固定负压组件,与所述预固定单元连通;以及
压力调节组件,分别安装在所述底盘负压组件和固定杆负压组件上,用于分别对提供给所述底盘负压组件和固定杆负压组件的负压进行调节。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





