[发明专利]溶液除杂方法和溶液除杂系统

说明书

本发明公开了一种溶液除杂方法和一种用于进行该方法溶液除杂系统。该溶液除杂方法主要包括：步骤S1，通过旧液储存容器储存所述待处理溶液；步骤S2，从所述旧液储存容器中抽取预设量的所述待处理溶液，送入批次反应容器内进行反应，得到杂质含量不大于预设值的处理后溶液；步骤S3，将所述批次反应容器内的所述处理后溶液送入新液储存容器进行储存，然后返回步骤S2。可见，本发明提供的溶液除杂方法和溶液除杂系统，可用于祛除硫酸溶液中的双氧水，且通过“多批次反应”的方式，达到高效处理的目的。

技术领域

本发明涉及水处理技术领域，特别涉及一种溶液除杂方法和一种溶液除杂系统。

背景技术

微电子技术是当代发展最快的技术之一，是电子信息产业发展的基础。微电子技术的发展，大大推动了航天航空技术、遥测传感技术、通讯技术、计算机技术、网络技术及家用电器产业的迅猛发展。在我国，已经把微电子产业列为国民经济的支柱性产业。如今，微电子技术已成为衡量一个国家科学技术进步和综合国力的重要标志。

在12英寸半导体芯片生产过程中，需要用到混酸(80％硫酸H₂SO₄与20％双氧水H₂O₂的混合物)，使用以后作为废液排放至废硫酸收集槽。

含有双氧水的浓硫酸具有很强的腐蚀性和氧化性，容易造成容器和管道泄漏，存在安全隐患。

因此如何祛除废硫酸中的双氧水，是本领域技术人员急需解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提供一种溶液除杂方法和一种溶液除杂系统，可用于祛除硫酸溶液中的双氧水，且处理效率较高。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种溶液除杂方法，用于祛除待处理溶液中的杂质，包括：

步骤S1：通过旧液储存容器储存所述待处理溶液；

步骤S2：从所述旧液储存容器中抽取预设量的所述待处理溶液，送入批次反应容器内进行反应，得到杂质含量不大于预设值的处理后溶液；

步骤S3：将所述批次反应容器内的所述处理后溶液送入新液储存容器进行储存，然后返回步骤S2。

优选地，在上述溶液除杂方法中，所述步骤S2包括：

步骤S21：从所述旧液储存容器中抽取预设量的所述待处理溶液，送入所述批次反应容器内；

步骤S22：向所述批次反应容器内投放用于祛除所述杂质的化学试剂，并搅拌和冷却，得到杂质含量不大于预设值的所述处理后溶液。

优选地，在上述溶液除杂方法中，所述步骤S22中，

通过液位计控制送入所述批次反应容器内的溶液容量；

和/或，通过CDA搅拌装置对所述批次反应容器内的溶液进行搅拌；

和/或，通过换热器对所述批次反应容器内的溶液进行循环冷却；

和/或，通过温度控制器检测所述批次反应容器内的溶液是否达到预设温度，以控制所述批次反应容器内的溶液是否进行冷却；

和/或，通过排气装置将反应生成的废气送入气体洗涤塔内进行处理。

优选地，在上述溶液除杂方法中，所述待处理溶液为含有双氧水的硫酸溶液，所述杂质为双氧水。

一种溶液除杂系统，用于进行如上文中所述的溶液除杂方法，所述的溶液除杂系统包括：

用于储存待处理溶液的旧液储存容器；