[发明专利]一种OLED显示基板、显示装置和制作方法

权利要求书

1.一种OLED显示基板，其特征在于，包括

衬底；

设置在所述衬底上的TFT结构；

设置在所述TFT结构上的平坦化层；

设置在所述平坦化层上的像素界定层和阳极；

设置在所述阳极上的有机功能层；以及

设置在所述有机功能层上的阴极；其中

所述阳极在靠近所述有机功能层一侧的区域中，邻近像素界定层的部分的方阻小于远离像素界定层的部分的方阻。

2.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述阳极包括

由像素界定层围绕的第一阳极；

贯通所述第一阳极远离像素界定层的部分的第一沟槽；

设置在所述第一沟槽中的第二阳极，其中第二阳极的方阻大于第一阳极的方阻。

3.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述阳极包括

由像素界定层围绕的第一阳极；

在所述第一阳极远离像素界定层的部分设置第二沟槽，所述第二沟槽的深度小于所述第一阳极的厚度；

设置在所述第二沟槽中的第二阳极，其中第二阳极的方阻大于第一阳极的方阻。

4.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述阳极包括

由像素界定层围绕的第一阳极；

贯通所述第一阳极远离像素界定层的部分的第一沟槽；

设置在所述第一沟槽中的第三阳极，所述第三阳极的厚度小于所述第一阳极的厚度；

设置在所述第一沟槽中的第二阳极，所述第二阳极位于所述第三阳极靠近所述有机功能层一侧，其中第二阳极的方阻大于第一阳极的方阻和第三阳极的方阻。

5.根据权利要求4所述的OLED显示基板，其特征在于，

所述第二阳极的方阻>所述第一阳极的方阻>所述第三阳极的方阻。

6.一种显示装置，其特征在于，包括根据权利要求1-5中任一项所述的OLED显示基板。

7.一种制作OLED显示基板的方法，其特征在于，包括

在衬底上形成TFT结构；

在所述TFT结构上形成平坦化层；

在所述平坦化层上形成阳极层和围绕所述阳极层的像素界定层，其中所述阳极层在靠近有机功能层一侧的区域中，邻近像素界定层的部分的方阻小于远离像素界定层的部分的方阻；

在所述阳极层上形成有机功能层；以及

在所述有机功能层上形成阴极。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述平坦化层上形成阳极层和围绕所述阳极层的像素界定层，其中所述阳极层在靠近有机功能层一侧的区域中，邻近像素界定层的部分的方阻小于远离像素界定层的部分的方阻包括：

在所述阳极层远离像素界定层的区域形成贯通其的第一沟槽，露出所述平坦化层，剩余所述阳极层为第一阳极；

在所述第一沟槽中形成第二阳极，其中第二阳极的方阻大于第一阳极的方阻。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述平坦化层上形成阳极层和围绕所述阳极层的像素界定层，其中所述阳极层在靠近有机功能层一侧的区域中，邻近像素界定层的部分的方阻小于远离像素界定层的部分的方阻包括：

在所述阳极层远离像素界定层的区域形成第二沟槽，所述第二沟槽的深度小于所述阳极层的厚度，剩余所述阳极层为第一阳极；

在所述第二沟槽中形成第二阳极，其中第二阳极的方阻大于第一阳极的方阻。