[发明专利]显示基板及其制作方法、以及显示装置有效

专利信息
申请号: 201811113916.2 申请日: 2018-09-25
公开(公告)号: CN109285970B 公开(公告)日: 2020-11-20
发明(设计)人: 王东方;苏同上;程磊磊 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 焦玉恒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制作方法 以及 显示装置
【说明书】:

本公开的实施例提供一种显示基板及其制作方法、以及显示装置。显示基板的制作方法,包括:在衬底基板上形成至少两种颜色的发光单元,其包括:在衬底基板上形成第一电极、发光层和第二电极,形成第一电极包括在衬底基板上形成电极子层和透明结构,形成第一颜色发光单元的透明结构包括:在电极子层远离衬底基板的一侧形成第一透明导电层、透明刻蚀阻挡层以及第二透明导电层,第一透明导电层与第二透明导电层的刻蚀速率基本相同,至少两种颜色的发光单元中的透明结构的厚度不同。通过形成透明刻蚀阻挡层,可以防止在形成不同颜色的发光单元中的不同厚度透明结构时,对透明刻蚀阻挡层面向衬底基板一侧的透明导电层造成损伤。

技术领域

本公开至少一个实施例涉及一种显示基板及其制作方法、以及显示装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)显示器因其具有自发光、对比度高、厚度薄、响应速度快、可弯折以及使用温度范围广等优点而成为研究的热点。

发明内容

本公开的至少一实施例提供一种显示基板及其制作方法、以及显示装置。通过形成透明刻蚀阻挡层,可以防止在形成不同颜色的发光单元中的不同厚度透明结构时,对透明刻蚀阻挡层面向衬底基板一侧的透明导电层造成损伤。

本公开的至少一实施例提供一种显示基板的制作方法,包括:在衬底基板上形成至少两种颜色的发光单元,形成所述至少两种颜色的发光单元包括:在所述衬底基板上形成第一电极,形成所述第一电极包括在所述衬底基板上依次形成电极子层和透明结构,其中,所述至少两种颜色的发光单元包括第一颜色发光单元,形成所述第一颜色发光单元的透明结构包括:在所述电极子层远离所述衬底基板的一侧依次形成层叠的第一透明导电层、透明刻蚀阻挡层以及第二透明导电层,所述第一透明导电层与所述第二透明导电层的刻蚀速率基本相同;在所述第一电极远离所述衬底基板的一侧形成发光层;以及在所述发光层远离所述第一电极的一侧形成第二电极,其中,所述电极子层和所述第二电极之一为反射电极,另一个为半透半反电极,且至少两种颜色的所述发光单元中的所述透明结构的厚度不同以使至少两种颜色的所述发光单元中的所述电极子层与所述第二电极之间的距离不同。

在一些示例中,所述发光层与所述第二电极共形形成在厚度不同的所述透明结构上。

在一些示例中,所述至少两种颜色的发光单元还包括第二颜色发光单元,所述第二颜色发光单元的透明结构包括层叠设置且彼此接触的第三透明导电层和第四透明导电层,形成所述第一颜色发光单元的透明结构和所述第二颜色发光单元的透明结构包括:在同一步工艺中形成所述第一透明导电层和所述第三透明导电层;在所述第一透明导电层和所述第三透明导电层远离所述衬底基板的一侧形成透明刻蚀阻挡层,并图案化所述透明刻蚀阻挡层以形成开口,从而暴露所述第三透明导电层;在图案化后的所述透明刻蚀阻挡层和所述第三透明导电层远离所述衬底基板的一侧形成透明导电膜,其中,与所述第一透明导电层相对应的所述透明导电膜为所述第二透明导电层,与所述第三透明导电层相对应的所述透明导电膜为所述第四透明导电层。

在一些示例中,在同一步工艺中形成所述第一透明导电层和所述第三透明导电层包括:采用同一步图案化工艺形成彼此间隔的所述第一透明导电层和所述第三透明导电层;形成所述透明导电膜之后包括:对所述透明导电膜和图案化后的所述透明刻蚀阻挡层进行图案化以保留所述第一透明导电层上的所述透明刻蚀阻挡层,并在被保留的所述透明刻蚀阻挡层上形成所述第二透明导电层,在所述第三透明导电层上形成所述第四透明导电层。

在一些示例中,所述至少两种颜色的发光单元还包括第三颜色发光单元,所述第三颜色发光单元的透明结构包括第五透明导电层,其中,形成所述第一透明导电层和所述第三透明导电层的同时还包括:形成所述第五透明导电层;形成所述第二透明导电层和所述第四透明导电层的同时还包括:图案化位于所述第五透明导电层上的所述透明刻蚀阻挡层和所述透明导电膜以暴露所述第五透明导电层,所述透明刻蚀阻挡层被配置为防止所述第五透明导电层被刻蚀。

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