[发明专利]描绘装置,描绘方法以及记录介质有效
| 申请号: | 201811113074.0 | 申请日: | 2018-09-21 |
| 公开(公告)号: | CN109551895B | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
| 发明(设计)人: | 清水大辅 | 申请(专利权)人: | 卡西欧计算机株式会社 |
| 主分类号: | B41J2/165 | 分类号: | B41J2/165;B41J3/36;B41J3/407;B41J3/44;A45D29/00 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 韩聪 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 描绘 装置 方法 以及 记录 介质 | ||
1.一种描绘装置,具备:
描绘头,具有对描绘对象排出墨水的墨水排出面并对所述描绘对象进行描绘;
头移动部,使所述描绘头在第一方向以及与所述第一方向交叉的第二方向上能移动;
描绘控制部,控制所述描绘头以及所述头移动部;
帽盖部,保护所述墨水排出面;和
多个维护部,进行所述描绘头的相互不同的内容的维护,
在所述描绘头通过所述头移动部而能移动的范围内,描绘区域、待机区域和所述多个维护部被设置于相互不同的位置,其中所述描绘区域是载置所述描绘对象并进行所述描绘头的所述描绘的区域,所述待机区域是配置所述帽盖部的区域,
所述描绘控制部通过所述头移动部,在所述描绘区域从所述墨水排出面对所述描绘对象排出所述墨水,
所述描绘控制部通过所述头移动部来使所述描绘头在待机区域从所述第二方向的一方向另一方移动,从而通过所述帽盖部来保护所述墨水排出面,
所述帽盖部具备施力构件,所述施力构件具有将所述帽盖部从所述第二方向的所述另一方向所述一方施加的施力。
2.根据权利要求1所述的描绘装置,其中,
通过所述头移动部来使所述描绘头在待机区域从所述第二方向的一方向另一方移动,从而所述帽盖部被向所述第二方向的所述另一方侧压入并且升起至覆盖所述墨水排出面的位置。
3.根据权利要求1所述的描绘装置,其中,
所述描绘控制部使所述描绘头在所述待机区域从所述第二方向的所述一方向所述另一方移动,从而所述帽盖部抵抗所述施力而被向所述第二方向的所述另一方侧压入,并且升起至覆盖所述墨水排出面的位置。
4.根据权利要求1所述的描绘装置,其中,
所述待机区域在所述描绘头未进行所述描绘的非描绘时配置有所述描绘头,
多个维护部相互在第1方向以及第2方向上被错开配置。
5.根据权利要求1至4的任意一项所述的描绘装置,其中,
所述待机区域被配置于比所述描绘区域更靠所述第二方向的所述另一方侧。
6.根据权利要求1至4的任意一项所述的描绘装置,其中,
所述描绘控制部通过所述头移动部来使所述描绘头从所述第一方向的一方向另一方移动,并且通过所述头移动部来使所述描绘头在待机区域从所述第二方向的一方向另一方移动,从而使所述描绘头在所述待机区域移动。
7.根据权利要求1至4的任意一项所述的描绘装置,其中,
在所述描绘头对所述描绘对象进行所述描绘时,所述帽盖部被配置于比所述墨水排出面更低的位置,以使得不与所述描绘头的所述墨水排出面接触。
8.一种描绘装置的控制方法,
所述描绘装置具备:描绘头,在第一方向以及与所述第一方向交叉的第二方向上能移动且对描绘对象从墨水排出面排出墨水来对所述描绘对象进行描绘;帽盖部,保护所述墨水排出面;和多个维护部,进行所述描绘头的相互不同的内容的维护,
在所述描绘头的能移动范围内,描绘区域、待机区域和所述多个维护部被设置于相互不同的位置,其中所述描绘区域是载置所述描绘对象并进行所述描绘头的所述描绘的区域,所述待机区域是设置所述帽盖部的区域,
在所述描绘区域,从所述墨水排出面对所述描绘对象排出所述墨水,
使所述描绘头在待机区域从所述第二方向的一方向另一方移动,从而通过所述帽盖部来保护所述墨水排出面,
所述帽盖部所具备的施力构件具有将所述帽盖部从所述第二方向的所述另一方向所述一方施加的施力。
9.一种记录介质,记录了控制描绘装置的程序,
所述描绘装置具备:描绘头,在第一方向以及与所述第一方向交叉的第二方向上能移动且对描绘对象从墨水排出面排出墨水来对所述描绘对象进行描绘;帽盖部,保护所述墨水排出面;和多个维护部,进行所述描绘头的相互不同的内容的维护,
在所述描绘头的能移动的范围内,描绘区域、待机区域和所述多个维护部被设置于相互不同的位置,其中所述描绘区域是载置所述描绘对象并进行所述描绘头的所述描绘的区域,所述待机区域是设置所述帽盖部的区域,
所述程序用于使控制所述描绘装置的计算机执行如下处理:
在所述描绘区域,从所述墨水排出面对所述描绘对象排出所述墨水,
使所述描绘头在待机区域从所述第二方向的一方向另一方移动,从而通过所述帽盖部来保护所述墨水排出面,
所述帽盖部所具备的施力构件具有将所述帽盖部从所述第二方向的所述另一方向所述一方施加的施力。
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