[发明专利]一种WOLED背板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811110311.8 申请日: 2018-09-21
公开(公告)号: CN109346502A 公开(公告)日: 2019-02-15
发明(设计)人: 唐甲;任章淳 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 制备 彩膜 平坦层 背板 像素定义层 底层薄膜 晶体管层 基板 间隔分布 间隔位置 吸光材料 像素区域 阳极 申请
【权利要求书】:

1.一种WOLED背板的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:

步骤S10,提供一形成有底层薄膜晶体管层的基板,在所述底层薄膜晶体管层上形成图案化的彩膜,所述彩膜包括对应子像素呈间隔分布的子彩膜单元;

步骤S20,在所述彩膜上形成平坦层,并对所述平坦层进行图案化,形成对应相邻两所述子彩膜单元之间间隔位置的凹槽;

步骤S30,在所述平坦层上形成对应所述子彩膜单元的图案化的阳极;

步骤S40,在所述凹槽位置形成图案化的像素定义层,所述像素定义层定义出像素区域,其中,所述像素定义层的材料为吸光材料。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述子彩膜单元包括红色彩膜单元、绿色彩膜单元以及蓝色彩膜单元。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述平坦层包括完全保留区域和部分保留区域,在所述步骤S20中的图案化制程中对对应所述完全保留区域的所述平坦层进行完全遮挡,对对应所述部分保留区域的所述平坦层进行半曝光。

4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述平坦层的所述完全保留区域对应所述子彩膜单元,所述部分保留区域对应相邻两所述子彩膜单元之间的间隔位置。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在所述步骤S40之后,所述方法还包括以下步骤:

步骤S50,在所述像素区域形成有机发光层;

步骤S60,在所述有机发光层上形成阴极层。

6.一种WOLED背板,其特征在于,包括:

基板;

底层薄膜晶体管层,制备于所述基板上;

彩膜,制备于所述底层薄膜晶体管层上,所述彩膜包括间隔分布的子彩膜单元;以及

平坦层,制备于所述彩膜上,且在对应相邻两所述子彩膜单元之间的间隔位置设置有凹槽;

阳极,对应所述子彩膜单元阵列的制备于所述平坦层上;

像素定义层,对应所述凹槽的位置制备于所述平坦层上,并定义出像素区域;

其中,所述像素定义层的材料为吸光材料。

7.根据权利要求6所述的WOLED背板,其特征在于,所述凹槽与所述子彩膜单元之间以所述平坦层隔开。

8.根据权利要求6所述的WOLED背板,其特征在于,所述阳极位于所述平坦层对应相邻两所述凹槽之间的部位,且露出所述凹槽。

9.根据权利要求6所述的WOLED背板,其特征在于,所述像素定义层包括插入部和间隔部,所述插入部插入到所述凹槽内,所述间隔部凸出所述平坦层并将相邻两所述像素区域间隔开。

10.根据权利要求9所述的WOLED背板,其特征在于,所述间隔部延伸至所述阳极的边缘部位。

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