[发明专利]一种彩敏全息记录材料及其制备方法有效
| 申请号: | 201811107030.7 | 申请日: | 2018-09-21 |
| 公开(公告)号: | CN109240065B | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
| 发明(设计)人: | 张宇宁;沈忠文;翁一士;刘奡 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
| 主分类号: | G03H1/02 | 分类号: | G03H1/02;G03F7/027 |
| 代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 张华蒙 |
| 地址: | 210096 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 全息 记录 材料 及其 制备 方法 | ||
本发明公开了一种彩敏全息记录材料,属于全息曝光材料领域,所采用的三种感光材料层由光致聚合物涂布得到,因红绿蓝三种感光材料为分层结构,相比于现有的彩敏感光材料,本发明所制备得到的光致聚合物折射率调制度为现有彩敏光致聚合物的三倍,从而衍射效率高,灵敏度高,与此同时机械性能、耐热性以及耐候性比现有的彩敏感光材料好。本发明的彩敏全息记录材料的制备方法,原料价格低廉,制备工艺简单,环境污染小,适合批量生产。
技术领域
本发明属于全息曝光材料领域,具体涉及一种彩敏全息记录材料及其制备方法。
背景技术
体全息技术是利用光学干涉原理,以全息图的形式将信息记录在全息材料内,当读出光满足布拉格衍射条件时,以衍射成像的形式恢复存储信息。全息图的质量取决于记录材料的特性,理想的全息记录材料应具有高灵敏度、高折射率调制度、高分辨率、较宽的光谱范围、低信噪比等特性,并且需具有成本低、可大面积制备、一致性高、稳定性高、机械性能好等特点才能实现大面积制备生产。
全息记录材料包括银盐材料、重铬酸盐明胶、光折变晶体、光致聚合物等。银盐材料的感光灵敏度很高,记录后的稳定性和耐候性也很好,但是其衍射效率低(仅可达到30%-40%),并且后处理工艺比较复杂,因材料感光后会形成大量尺寸不一的银颗粒,从而导致其环境光透过率较低。
重铬酸盐明胶具有衍射效率高、感光灵敏度高等优点,但明胶版保存期很短,需在使用前自行制备,对环境湿度非常敏感,感光后须封装避免材料和空气中的水汽接触,防止出现消像问题。光折变晶体虽具有衍射效率高、动态范围大、可擦除重写的优点,但其灵敏度较低,长期保存记录的信息需要复杂的固定技术,制作成本高,难以大面积制备,限制了其应用前景。光致聚合物利用光聚合反应在材料内部产生折射率变化以进行记录光波相位和振幅信息,具有高灵敏度、高分辨率、高衍射效率、高信噪比、成本低廉、工艺简单等优势,容易大面积制备,是全息存储和全息衍射光学元件领域最有潜力的记录材料之一。
目前市面上可批量生产的光致聚合物产品屈指可数,例如杜邦公司的OmniDex系列产品、拜耳公司的HX200等,然而该产品都存在折射率调制度不够高(衍射效率未达到理论最高值99%),耐热性差,环境光透过率低,耐磨性差等问题。
截止目前,仍未有机构报道一种对多波长激光敏感、耐热性好、灵敏度高、环境光透过率高、折射率调制度高、稳定性好、机械性能好的材料体系及制备方法。
发明内容
发明目的:为了解决现有技术存在的问题,本发明提供一种彩敏全息记录材料,该材料兼具耐热性好、折射率调制度高(三种光敏材料分别形成折射率调制)、灵敏度高、衍射效率高(折射率调制度高)、机械性能好、透过率高以及可大面积制备等优点。本发明的另一目的在于提供一种彩敏全息记录材料的制备方法。
技术方案:为了实现上述发明目的,本发明采用如下技术方案:
一种彩敏全息记录材料,包括由上至下依次层叠设置的衬底层、红敏感光材料层、第一间隔层、绿敏感光材料层、第二间隔层、蓝敏感光材料层和保护层;所述的衬底层、第一间隔层、第二间隔层、保护层为软性透明塑料膜、塑料薄片和玻璃片中的任意一种;其中,软性透明塑料膜和塑料薄片选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚乙烯酯、聚氯乙烯酯、聚丙烯酯、聚苯乙烯酯、改性聚苯乙烯、纤维素乙酸酯中的任意一种或者任意几种制成;玻璃片为石英玻璃片、硼酸盐玻璃片、光学玻璃片或钢化玻璃片,玻璃片由二氧化硅、二氧化锆、硼酸盐、金属氧化物任意一种或者任意几种制成;所述的红敏感光材料层、绿敏感光材料层、蓝敏感光材料层由光致聚合物均匀涂布、喷墨或者旋涂得到。
所述的衬底层、第一间隔层、第二间隔层、保护层各自的厚度均分别为10μm-2mm,光学折射率为1.4-1.6。
所述的红敏感光材料层、绿敏感光材料层、蓝敏感光材料层的光致聚合物包括以下化学成分:粘结剂、交联剂、活性单体、光催化剂、表面活性剂、增塑剂、填料、光敏引发剂、漂白剂以及其他助剂。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811107030.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





