[发明专利]一种物镜畸变和场曲的测试装置及方法、光刻设备

权利要求书

1.一种物镜畸变和场曲的测试装置，其特征在于，包括：

照明系统，用于提供光源；

掩膜版，所述掩膜版包括第一标记组合、第二标记组合、第三标记组合和第四标记组合；所述第一标记组合包括多个第一Y向标记，相邻所述第一Y向标记沿X方向的距离为a，沿Y方向的距离为A；所述第二标记组合包括多个第一X向标记，相邻所述第一X向标记沿X方向的距离为b，沿Y方向的距离为B；所述第三标记组合包括多个第二Y向标记，相邻所述第二Y向标记沿X方向的距离为c，沿Y方向的距离为C；所述第四标记组合包括多个第二X向标记，相邻所述第二X向标记沿X方向的距离为d，沿Y方向的距离为D；

掩膜台，用于承载所述掩膜版；

对准模块，所述对准模块包括分别与所述第一标记组合、所述第二标记组合、所述第三标记组合和所述第四标记组合对应的第一传感器单元、第二传感器单元、第三传感器单元以及第四传感器单元，各传感器单元均包括一个像传感器以及两个对准标记，两个所述对准标记位于所述像传感器靠近照明系统的一侧；所述第一传感器单元中的两个所述对准标记沿X方向的距离为ma+δ，沿Y方向的距离为mA，所述第二传感器单元中的两个所述对准标记沿X方向的距离为mb，沿Y方向的距离为mB+δ，所述第三传感器单元中的两个所述对准标记沿X方向的距离为mc+δ,沿Y方向的距离为mC，所述第四传感器单元中的两个所述对准标记沿X方向的距离为md，沿Y方向的距离为mD+δ；

各传感器单元中的所述对准标记的形状与对应标记组合中的标记形状相同，尺寸为对应标记组合中的标记的尺寸的m倍；

物镜，用于对所述掩膜版上的标记进行成像；

工件台，用于承载所述对准模块；

其中，m为所述物镜的放大倍数，δ为正数或负数。

2.根据权利要求1所述的测试装置，其特征在于，m＝1/4。

3.根据权利要求1所述的测试装置，其特征在于，所述像传感器为CCD相机或CMOS型像传感器。

4.根据权利要求1所述的测试装置，其特征在于，所述第一X向标记和所述第二X向标记，以及所述第二传感器单元中的两个所述对准标记和所述第四传感器单元中的两个所述对准标记均为X向光栅；

所述第一Y向标记和所述第二Y向标记，以及所述第一传感器单元中的两个所述对准标记和所述第三传感器单元中的两个所述对准标记均为Y向光栅。

5.根据权利要求1所述的测试装置，其特征在于，a0，A＝0；b0，B＝0；c＝0，C0；d＝0，D0；δ0。

6.根据权利要求5所述的测试装置，其特征在于，所述第一X向标记和所述第二X向标记均为X向狭缝，第一Y向标记和第二Y向标记均为Y向狭缝；a＝b；位于对应标记组合中相同位置处的第一Y向标记和第一X向标记相交呈第一十字标记，位于对应标记组合中相同位置处的第二Y向标记和第二X向标记相交呈第二十字标记；对应的，

所述第二传感器单元中的两个对准标记和所述第四传感器单元中的两个对准标记分别为X向狭缝，所述第一传感器单元中的两个对准标记和所述第三传感器单元中的两个对准标记分别为Y向狭缝；所述第一传感器单元和所述第二传感器单元中位于同侧的所述对准标记交相交呈第三十字标记，所述第一传感器单元和所述第二传感器单元共用同一所述像传感器；所述第三传感器单元和所述四传感器单元中位于同侧的所述对准标记交相交呈第四十字标记，所述第三传感器单元和所述第四传感器单元共用同一所述像传感器。

7.根据权利要求6所述的测试装置，其特征在于，所述第一十字标记和所述第二十字标记的形状和尺寸相同；所述掩膜版中的任一所述第一十字标记复用为所述第二十字标记；对应的，

所述对准模块中，任一所述第三十字标记复用为所述第四十字标记。

8.根据权利要求1所述的测试装置，其特征在于，a0，A＝0；b0，B0，B＝(-δ)/m；c0，C0，c＝(-δ)/m；d＝0，D0；δ0。