[发明专利]电波暗室用大电流输出的转台装置及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201811095714.X 申请日: 2018-09-19
公开(公告)号: CN109375000A 公开(公告)日: 2019-02-22
发明(设计)人: 黄幼松;任红磊 申请(专利权)人: 北京亿策工程技术有限公司
主分类号: G01R31/00 分类号: G01R31/00;G01R1/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100102 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 上层 转台 旋转平台 铜排 电波暗室 转台装置 大电流 升降台 供电电源 驱动旋转 同步转动 驱动件 输出 转动 同心转动 转动过程 转动连接 转动信号 转动组件 转台转动 被测物 电源线 中心孔 履带 竖直 线架 升降 测量 测试 传递
【说明书】:

本发明公开了一种电波暗室用大电流输出的上层转台装置,其包括上层转台和升降台,上层转台上开设有中心孔,升降台上通过转动组件转动连接有旋转平台,旋转平台与上层转台同步同心转动;旋转平台上设置有供电电源和铜排,供电电源与铜排连接。本发明还公开了一种电波暗室用大电流输出的转台装置的使用方法,包括以下步骤:S1、控制升降台在竖直方向上运动,将被测物与铜排连接;S2、上层转台转动时,将上层转台的转动信号传递至驱动旋转平台转动的驱动件上,使得驱动件驱动旋转平台与上层转台保持同步转动;S3、旋转平台转动过程中,带动线架履带和入电电源线随之转动。本发明具有将铜排与用于测试的上层转台同步转动,测量时候更为方便的效果。

技术领域

本发明涉及电磁兼容测试技术领域,尤其是涉及一种电波暗室用大电流输出的转台装置及其使用方法。

背景技术

EMC测试又叫做电磁兼容(EMC),指的是对电子产品在电磁场方面干扰大小(EMI)和抗干扰能力(EMS)的综合评定,是产品质量最重要的指标之一,电磁兼容的测量由测试场地和测试仪器组成。

如授权公告号为CN102435786B的中国专利公开了一种电波暗室用大电流输出的转台装置,包括上层转台和下层上层转台,上层转台和下层上层转台之间固定连接,下层上层转台上设有大电流发生装置;大电流发生装置包括三台多磁路变压器、三台调压器和一台控制柜;所述控制柜连接三台调压器,三台调压器连接对应的多磁路变压器,大电流接线端采用可升降柔性铜排的固定连接方式。与现有技术相比,本发明具有以下优点:1.采用大电流输出的双层上层转台结构,能够对高压电气设备进行电磁兼容的辐射发射测量,解决了普通上层转台无法实现的难题;2.电源进线经过滤波器连接到大电流发生设备,保证了被测设备电磁屏蔽性能,提高了测量的准确性,防止调压器产生的谐波对电网的干扰;3.被测设备与大电流发生装置的连接采用三个可升降铜排,使试验时连接方便。

上述中的现有技术方案存在以下缺陷:通常将被测物与铜排连接,但是在上层转台和下层上层转台转动过程中,因为中心铜排在测试过程中无法随着上层转台进行同步旋转,对测试造成很大的不便。

发明内容

本发明的目的之一是提供一种电波暗室用大电流输出的转台装置,具有将铜排与用于测试的上层转台同步转动,测量时候更为方便的效果。

本发明的上述发明目的是通过以下技术方案得以实现的:

一种电波暗室用大电流输出的转台装置,包括上层转台和处于上层转台下方的升降台,所述上层转台上开设有中心孔,所述升降台上通过转动组件转动连接有旋转平台,所述旋转平台与所述上层转台同步同心转动;

所述旋转平台上设置有供电电源和连接被测物的铜排,所述供电电源与所述铜排连接,且所述铜排处于所述中心孔的轴线上。

通过采用上述技术方案,通过升降台将铜排上升至指定地方,处于上层转台上,将铜排与被测物连接后,通过转动组件带动旋转平台在升降台上转动,而且旋转平台与上层转台同步转动,进而使得铜排与上层转台同步转动,测量的时候更为方便。

本发明进一步设置为:所述铜排的中心线处于所述中心孔的中心轴线上。

通过采用上述技术方案,如此设置使得铜排上升后处于中心孔的中心轴线上,检测的时候被测物与铜排之间的磁场是均匀地,不会造成影响,检测的时候更为准确。

本发明进一步设置为:所述转动组件包括固接在所述旋转平台靠近所述升降台一侧的驱动轮和驱动驱动轮周向转动的驱动件,所述驱动件的驱动轴与所述驱动轮连接,且所述驱动件处于所述升降台与所述旋转平台之间。

通过采用上述技术方案,使用时,通过驱动件驱动驱动轮周向转动,进而带动与驱动轮连接的旋转平台转动。

本发明进一步设置为:所述旋转平台靠近所述升降调一侧还固接有若干万向脚轮,万向脚轮在所述升降台上滚动。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京亿策工程技术有限公司,未经北京亿策工程技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811095714.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top