[发明专利]高阻镀膜、彩膜基板及液晶显示面板

说明书

本申请涉及一种高阻镀膜、彩膜基板及液晶显示面板，高阻镀膜包括氧化锡锑和防静电吸附氧化物。通过在氧化锡锑材料中掺入具有防静电吸附的氧化物，形成一种新型高阻镀膜材料，使得采用该种材料制成的高阻镀膜在具备较高阻值的同时，还能够有效地防静电吸附，保证了高阻镀膜在使用过程中阻值不发生变化，与传统的高阻镀膜相比具有稳定性高的优点。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种高阻镀膜、彩膜基板及液晶显示面板。

背景技术

随着液晶显示技术的发展，为了满足人们对液晶显示装置的轻量化和薄型化需求，In-cell技术也应运而生。In-cell(指将触摸面板功能嵌入到液晶像素中的方法)技术与On-cell(指将触摸面板功能嵌入到彩色滤光片基板和偏光板之间的方法)技术的应用，实现了触摸面板和液晶面板的一体化。

为了防止外部电场对显示造成影响，通常在In-Cell表面利用镀膜方法，形成一层特殊的镀膜材料，以形成一种既具有防触控信号干扰又具有防静电的功能薄膜。常用的镀膜材料为氧化锡锑(Antimony Tin Oxide，ATO)，然而氧化锡锑容易出现静电吸附使得阻值上涨，擦拭后又能够回到原来的阻值，导致氧化锡锑材料释放静电过程非常不稳定，传统的高阻镀膜存在稳定性低的缺点。

发明内容

基于此，有必要针对传统的高阻镀膜稳定性差的问题，提供一种高阻镀膜、彩膜基板及液晶显示面板。

一种高阻镀膜，所述高阻镀膜包括氧化锡锑和防静电吸附氧化物。

在一个实施例中，所述防静电吸附氧化物为透明导电氧化物。

在一个实施例中，所述透明导电氧化物包括氧化锌、铝掺杂氧化锌、三氧化二钛和氧化铌中至少一种。

在一个实施例中，所述氧化锡锑和所述透明导电氧化物的组分比为1：0.05 至1:6。

在一个实施例中，所述氧化锡锑和所述透明导电氧化物的组分比为1：0.1 至1:5。

在一个实施例中，所述透明导电氧化物为氧化铟锡。

在一个实施例中，所述氧化锡锑和所述氧化铟锡的组分比为1:0.05至 1:0.5。

在一个实施例中，所述氧化锡锑和所述氧化铟锡的组分比为1:0.1至1:0.3。

一种彩膜基板，所述彩膜基板包括基板本体以及上述任一项所述的高阻镀膜，所述高阻镀膜设置于所述基板本体。

一种液晶显示面板，其特征在于，所述液晶显示面板包括阵列基板、液晶层和上述彩膜基板，所述阵列基板与所述彩膜基板相对设置，所述液晶层位于所述阵列基板与所述彩膜基板之间。

上述高阻镀膜、彩膜基板及液晶显示面板，高阻镀膜包括氧化锡锑和防静电吸附氧化物。通过在氧化锡锑材料中掺入具有防静电吸附的氧化物，形成一种新型高阻镀膜材料，使得采用该种材料制成的高阻镀膜在具备较高阻值的同时，还能够有效地防静电吸附，保证了高阻镀膜在使用过程中阻值不发生变化，与传统的高阻镀膜相比具有稳定性高的优点。

具体实施方式