[发明专利]一种甘草酸二铵原料药溶剂残留的去除方法有效

专利信息
申请号: 201811083233.7 申请日: 2018-09-17
公开(公告)号: CN109232707B 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 魏利强;李闪闪;傅收;梁永义;吴银强;罗明;石艳彩;王心久 申请(专利权)人: 河南豫辰药业股份有限公司
主分类号: C07J63/00 分类号: C07J63/00
代理公司: 许昌豫创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 41140 代理人: 李海帆
地址: 461100 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 甘草 酸二铵 原料药 溶剂 残留 去除 方法
【权利要求书】:

1.一种甘草酸二铵原料药溶剂残留的去除方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤A,将甘草酸二铵粗品和混合溶剂加热,溶清后加入活性炭脱色,热滤;

步骤B,将步骤A所得滤液加热,溶清后降温,加入经处理过的晶种,搅拌结晶,离心过滤,得甘草酸二铵湿品;

步骤C,将步骤B所得甘草酸二铵湿品进行减压干燥,得甘草酸二铵一次干品;

步骤D,将步骤C所得甘草酸二铵一次干品放置在空气湿度为65~85%的室内,静置,吸湿;

步骤E,将步骤D所得吸湿后的物料抽滤后,再次进行减压干燥,得低残留溶剂的甘草酸二铵原料药;

所述步骤A中,混合溶剂为50~55%的乙醇溶液;

所述步骤D中,静置吸湿10小时以上;

所述步骤C和步骤E中,减压干燥为50~60℃下减压干燥5~8小时。

2.根据权利要求1所述的甘草酸二铵原料药溶剂残留的去除方法,其特征在于:所述步骤A中,甘草酸二铵粗品与混合溶剂的质量比为1:4~5。

3.根据权利要求1所述的甘草酸二铵原料药溶剂残留的去除方法,其特征在于:所述步骤B中,加热溶清后降温加入经处理过的晶种的温度为48~52℃。

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