[发明专利]一种靶材悬挂机构及离子溅射镀膜设备在审

专利信息
申请号: 201811078411.7 申请日: 2018-09-14
公开(公告)号: CN108893719A 公开(公告)日: 2018-11-27
发明(设计)人: 周予坤;王安平 申请(专利权)人: 苏州浩联光电科技有限公司
主分类号: C23C14/46 分类号: C23C14/46
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 吴莎
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 镀膜设备 分水法兰 离子溅射 悬挂机构 靶材 安装通孔 一端连接 连接孔 上法兰 水柱 加工件表面 膜厚均一性 元器件技术 良品率 光通信
【说明书】:

发明提供一种靶材悬挂机构及离子溅射镀膜设备,属于光通信用元器件技术领域。其包括分水法兰、通水柱以及上法兰;分水法兰的中部开设有安装通孔,通水柱的一端连接于安装通孔,另一端连接于上法兰;分水法兰的一端上开设有多个第一连接孔,另一端上开设有多个第二连接孔。该离子溅射镀膜设备具有上述的靶材悬挂机构,使得加工件表面膜厚均一性好且良品率高。

技术领域

本发明涉及光通信用元器件技术领域,尤其涉及一种靶材悬挂机构及离子溅射镀膜设备。

背景技术

离子束溅射镀膜设备,是生产光通信用元器件波分复用滤光片所需的必要设备,此设备结构中,作为核心布局的靶材悬挂机构,通常采用如下布局:其主要结构包括靶材悬挂机构、离子源、待加工产品(圆形)以及膜厚补正装置;其中靶材悬挂机构的靶中心与离子源距离260mm-280mm,此为关键距离。

离子束溅射原理简述:由离子源产生离子束流后,高能量的离子束流撞击靶材,将靶材粒子溅射至待加工产品表面,形成镀膜膜层。

现有靶材悬挂机构的缺点主要体现在待加工产品表面膜厚均匀性差导致良品率低。

发明内容

本发明的目的之一在于提供一种靶材悬挂机构,此靶材悬挂机构旨在解决现有技术中靶材悬挂机构操作不便捷的问题;

本发明的另一目的在于提供一种离子溅射镀膜设备,此离子溅射镀膜设备旨在解决现有技术中靶材悬挂机构操作不便捷的问题。

为实现上述目的,本发明的技术方案是:

一种靶材悬挂机构,所述靶材悬挂机构包括分水法兰、通水柱以及上法兰;所述分水法兰的中部开设有安装通孔,所述通水柱的一端连接于所述安装通孔,另一端连接于所述上法兰;所述分水法兰的一端上开设有多个第一连接孔,另一端上开设有多个第二连接孔。

作为本发明的一种优选技术方案,所述分水法兰内安装有第一冷却水循环管道,所述通水柱内安装有与所述第一冷却水循环管道连接的第二冷却水循环管道。

作为本发明的一种优选技术方案,所述分水法兰的一端上设置有第一连接槽,多个所述第一连接孔沿所述第一连接槽的周向分布,多个所述第一连接孔之间的间距相同。

作为本发明的一种优选技术方案,所述第一连接槽中安装有第一无氧铜垫片。

作为本发明的一种优选技术方案,所述分水法兰的另一端上设置有第二连接槽,多个所述第二连接孔沿所述第二连接槽的周向分布,多个所述第二连接孔之间的间距相同。

作为本发明的一种优选技术方案,所述第二连接槽中安装有第二无氧铜垫片。

作为本发明的一种优选技术方案,所述通水柱的一端采用水密或者气密的焊接方式连接于所述安装通孔,另一端采用水密或者气密的焊接方式连接于所述上法兰。

一种离子溅射镀膜设备,所述离子溅射镀膜设备包括第一靶材、第二靶材、溅射离子源、膜厚补正装置、待加工件、支撑平台以及以上所述的靶材悬挂机构;

所述溅射离子源、所述靶材悬挂机构、所述膜厚补正装置以及所述待加工件均间隔地设置在所述支撑平台上;

所述第一靶材通过将多个螺丝安装在多个所述第一连接孔中与所述分水法兰的一端连接,所述第二靶材通过将多个螺丝安装在多个所述第二连接孔中与所述分水法兰的另一端连接;

所述溅射离子源、所述靶材悬挂机构以及所述待加工件不处于同一直线上;所述膜厚补正装置与所述待加工件平行间隔设置。

作为本发明的一种优选技术方案,所述分水法兰所在的平面与所述第一靶材、所述第二靶材所在的平面之间的角度范围为60°~65°;所述第一靶材的靶中心、所述第二靶材的靶中心与所述溅射离子源之间的距离范围为330mm~350mm。

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