[发明专利]一种用于制备均孔膜的嵌段共聚物及其制备孔径亚10nm均孔膜的方法

权利要求书

1.一种用于制备均孔膜的嵌段共聚物，其特征在于，分子结构如下：

其中，R1为疏水官能团，结构选自如1,2,3,4所示结构式中的任一种。R2为含吡啶环结构的亲水官能团，结构选自如5,6,7,8,9,10,11,12,13,14所示结构式中的任一种。结构式如下：

2.根据权利要求1所述的嵌段共聚物，其特征在于，R1与R2的质量比在2～20:1之间。

3.一种权利要求1所述的嵌段共聚物制备孔径亚10nm均孔膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将嵌段聚合物、溶剂、添加剂混合形成均相的铸膜液；

(2)用刮刀将铸膜液在光滑的基底上面铺展开，得到初生膜；

(3)将初生膜浸入凝固浴中相转化成膜，同时洗脱添加剂，得到亚10nm均孔膜。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述的聚合物在铸膜液中的浓度为8～30wt％。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述溶剂选自二氧六环、丙酮、氯仿、四氢呋喃、苯、丙二醇丙醚、甲苯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、乙酸乙酯中的一种、两种或三种按照任意比组成的混合物。

6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述添加剂选自牛磺酸、对甲基苯磺酸、甲酸、乙酸、乙二酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸、己二酸、分子量为500～15500g/mol的聚丙烯酸、磺化聚乙二醇、磺化聚丙二醇、羧基封端聚乙二醇、羧基封端的聚丙二醇；所述聚乙二醇和聚丙二醇的分子量为100-2000g/mol。

7.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述的添加剂与聚合物中吡啶结构数的摩尔比为0.25～2。

8.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述基底可以是玻璃、无纺布、硅片、聚四氟乙烯板、不锈钢板、涂覆聚乙烯醇的玻璃板、硅烷偶联剂改性后的基底、聚乙烯亚胺致密膜以及聚砜、聚醚砜、聚偏氟乙烯、聚丙烯腈、聚乙烯、聚丙烯超滤膜和微滤膜。

9.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述凝固浴选自去离子水、甲醇、乙醇中的一种或两种按照任意比组成的混合物。