[发明专利]溅射装置及其使用方法

权利要求书

1.一种溅射装置，是在圆筒状的靶与基板之间形成磁场的状态下进行溅射的磁控溅射方式的溅射装置，所述靶设置于与所述基板相对的位置，且在溅射时旋转，所述溅射装置的特征在于，

具备：

磁铁单元，所述磁铁单元具有形成所述磁场的磁铁和支承该磁铁的支承构件，所述磁铁单元设置于所述靶的内部；

环状的第一冷却液流路，所述第一冷却液流路形成于所述靶和所述磁铁单元之间，冷却所述靶的冷却液流过所述第一冷却液流路；以及

第二冷却液流路，所述第二冷却液流路设置于所述磁铁单元的内部，所述冷却液流过所述第二冷却液流路，

在从所述第一冷却液流路朝向所述第二冷却液流路送入气体的期间，所述第一冷却液流路和所述第二冷却液流路的连接部位维持在所述第一冷却液流路中的偏铅垂方向下方的位置。

2.如权利要求1所述的溅射装置，其特征在于，

在所述期间，所述连接部位维持在比所述靶的旋转中心轴线靠铅垂方向下方的位置。

3.如权利要求1所述的溅射装置，其特征在于，

所述第一冷却液流路配置为与所述靶的旋转中心轴线同心。

4.如权利要求1所述的溅射装置，其特征在于，

在所述期间，所述连接部位维持在能够配置于环状的第一冷却液流路中的从铅垂方向的正下的位置开始的±45°的范围内。

5.如权利要求1所述的溅射装置，其特征在于，

在所述期间，所述连接部位相对于所述磁铁隔着所述靶的旋转中心轴线配置在相反侧。

6.如权利要求1所述的溅射装置，其特征在于，

具备沿着所述靶的旋转中心轴线延伸设置的第三冷却液流路，

所述第二冷却液流路将所述第一冷却液流路与所述第三冷却液流路连接，

从所述第一冷却液流路按所述第二冷却液流路、所述第三冷却液流路的顺序送入所述气体。

7.如权利要求1所述的溅射装置，其特征在于，

具有：

一对第一配管，所述一对第一配管平行于所述靶的旋转中心轴线地延伸；以及

一对第二配管，所述一对第二配管从所述一对第一配管朝向第一冷却液流路分别延伸，

由所述第一配管的内部空间和所述第二配管的内部空间形成所述第二冷却液流路，并且

一对所述第二配管在所述旋转中心轴线方向的不同位置分别连接于一对所述第一配管，并且在朝向所述旋转中心轴线方向观察的情况下，一对所述第二配管连接于所述第一冷却液流路的位置重合。

8.如权利要求1所述的溅射装置，其特征在于，

由形成于所述靶的内周面与所述磁铁单元的外周面之间的圆筒状的空间构成所述第一冷却液流路，并且

所述连接部位是形成于所述磁铁单元的外周面且与该磁铁单元的内部连通的开口部。

9.如权利要求1所述的溅射装置，其特征在于，

在所述期间，决定所述磁铁单元的旋转方向的位置，从而使所述第一冷却液流路和所述第二冷却液流路的连接部位相比于磁铁配置在铅垂方向下方。

10.一种溅射装置的使用方法，是权利要求1～9中任一项所述的溅射装置的使用方法，其特征在于，

在进行溅射时，使所述磁铁朝向铅垂方向下方，使所述连接部位相比于所述磁铁配置于铅垂方向上方，

在送入所述气体时，使所述连接部位相比于所述磁铁配置于铅垂方向下方。